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Elektronikproduktion | 30 Mai 2011

Millionenumsatz im Mai für den Halbleiterbereich von Carl Zeiss

Carl Zeiss hat im Mai mehrere Großgeräte zur Analyse und Reparatur von Photomasken in die USA und nach Taiwan ausliefern können.

"Die Lieferungen bestätigen den positiven Trend in der Halbleiterindustrie und in unserem Bereich Semiconductor Metrology Systems bei Carl Zeiss. Wir freuen uns über volle Auftragsbücher", sagt Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsführer der Carl Zeiss SMS GmbH. In die USA wurde ein System MeRiT HR 32 geliefert, das für die hochgenaue Reparatur von Photomasken eingesetzt wird. Nach Taiwan ging ein System PROVE, das die Positionsgenauig- keit der Maskenstrukturen im Sub-Nanometer- bereich misst. Ein Gerät CDC32 zur Verbesse- rung der Genauigkeit von Linienbreiten auf Photomasken wurde außerdem direkt in eine sogenannte "Wafer Fab", eine Produktionsstätte für Speicherchips, geliefert. Während Masken- häuser die Hauptkunden der Carl Zeiss SMS GmbH sind, ist der Eintritt in den Wafer Fab Markt neu. "Der aktuelle Verkauf eines Geräts in eine Wafer Fab in den USA bestätigt unsere Strategie. Diese neue Ausrichtung wird uns in nächster Zeit weiteren, zusätzlichen Aufschwung bringen", kommentiert Kienzle weiter.
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