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Elektronikproduktion | 12 Januar 2011

Süss MicroTec kooperiert mit Cornell University

SĂŒss MicroTec ist eine strategische Zusammenarbeit mit der NanoScale Science & Technology FakultĂ€t (CNF) der nordamerikanischen Cornell-UniversitĂ€t eingegangen.
Im Rahmen dieser Zusammenarbeit werden Cornell - Mitarbeiter an bereits existierenden und neuen Lithographiesystemen von SĂŒss MicroTec, darunter innovative AufrĂŒstsĂ€tze fĂŒr Mask Aligner sowie ein SprĂŒhbelacker der Gamma – Serie, Forschungsarbeiten durchfĂŒhren. Die RĂ€umlichkeiten von CNF, die jĂ€hrlich von ĂŒber 700 Anwendern genutzt werden, wird darĂŒber hinaus SĂŒss MicroTec als Labor fĂŒr Forschungsanwendungen und KundenvorfĂŒhrungen dienen. Die neuen GerĂ€te werden ab Anfang 2011 zur VerfĂŒgung stehen.

Zu den LithografiegerĂ€ten, die bei CNF installiert werden, gehören zwei spezielle AufrĂŒstsĂ€tze fĂŒr den SÜSS MA/BA6-Aligner. Der erste AufrĂŒstsatz, Substrate Conformal Imprinting Lithography (SCIL), ist eine von SÜSS MicroTec in Zusammenarbeit mit Philips Research entwickelte Technologie. Sie bietet eine kostengĂŒnstige Möglichkeit, Strukturen von 10 nm und kleiner mit hoher Reproduziergenauigkeit mittels eines großflĂ€chigen PrĂ€gestempels herzustellen. Der zweite AufrĂŒstsatz, MO Exposure Optics, ist eine einzigartige, von der SÜSS MicroTec Tochter SÜSS MicroOptics entwickelte und patentierte Belichtungstechnik und erweitert das Leistungsspektrum fĂŒr standardisierte Lithografie-Prozesse signifikant. Das Lithografie-Cluster aus der Gamma-Reihe unterstĂŒtzt bei CNF sĂ€mtliche Anwendungen zum Prozessieren von Lacken. Es enthĂ€lt Module fĂŒr die Entwicklung, AushĂ€rtung und Belackung einschließlich der von SÜSS MicroTec entwickelten SprĂŒhbelackung fĂŒr Strukturen mit hohen AspektverhĂ€ltnissen.

Nach Meinung von Don Tennant, dem technischen Leiter bei CNF, „bietet das Gamma-System von SĂŒss MicroTec CNF genau die herausragenden FĂ€higkeiten in der Belackung, AushĂ€rtung und Entwicklung, die gerade gebraucht werden. Dank seiner stabilen, reproduzierbaren Ergebnisse und der hohen ProzessflexibilitĂ€t erfĂŒllt es exakt die BedĂŒrfnisse unserer Anwender. Diese Zusammenarbeit ermöglicht es uns, die neuen und vielversprechenden Technologien, die SÜSS MicroTec fĂŒr die Gamma- und die MA/BA6-Plattformen entwickelt hat, zu nutzen. Wir sind schon sehr gespannt auf die bahnbrechenden Fortschritte, die unsere Anwender mit den neu geschaffenen Möglichkeiten erreichen werden.“

„Mit CNF konnten wir einen anerkannten Pionier der Nanoforschung als unseren Partner gewinnen.“, kommentierte Frank Averdung, Vorstandsvorsitzender der SĂŒss MicroTec AG. „Insbesondere die Möglichkeit CNFs hochmoderne Forschungseinrichtungen fĂŒr die Weiterentwicklung unserer Technologien zu nutzen stellt sich fĂŒr uns als sehr positiv dar. Damit können wir unseren nordamerikanischen Kunden anbieten, ihre Prozesse zukĂŒnftig hier einzurichten und zu testen.“
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2019.01.17 14:20 V11.11.0-2