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Elektronikproduktion | 12 Januar 2011

Süss MicroTec kooperiert mit Cornell University

Süss MicroTec ist eine strategische Zusammenarbeit mit der NanoScale Science & Technology Fakultät (CNF) der nordamerikanischen Cornell-Universität eingegangen.
Im Rahmen dieser Zusammenarbeit werden Cornell - Mitarbeiter an bereits existierenden und neuen Lithographiesystemen von Süss MicroTec, darunter innovative Aufrüstsätze für Mask Aligner sowie ein Sprühbelacker der Gamma – Serie, Forschungsarbeiten durchführen. Die Räumlichkeiten von CNF, die jährlich von über 700 Anwendern genutzt werden, wird darüber hinaus Süss MicroTec als Labor für Forschungsanwendungen und Kundenvorführungen dienen. Die neuen Geräte werden ab Anfang 2011 zur Verfügung stehen.

Zu den Lithografiegeräten, die bei CNF installiert werden, gehören zwei spezielle Aufrüstsätze für den SÜSS MA/BA6-Aligner. Der erste Aufrüstsatz, Substrate Conformal Imprinting Lithography (SCIL), ist eine von SÜSS MicroTec in Zusammenarbeit mit Philips Research entwickelte Technologie. Sie bietet eine kostengünstige Möglichkeit, Strukturen von 10 nm und kleiner mit hoher Reproduziergenauigkeit mittels eines großflächigen Prägestempels herzustellen. Der zweite Aufrüstsatz, MO Exposure Optics, ist eine einzigartige, von der SÜSS MicroTec Tochter SÜSS MicroOptics entwickelte und patentierte Belichtungstechnik und erweitert das Leistungsspektrum für standardisierte Lithografie-Prozesse signifikant. Das Lithografie-Cluster aus der Gamma-Reihe unterstützt bei CNF sämtliche Anwendungen zum Prozessieren von Lacken. Es enthält Module für die Entwicklung, Aushärtung und Belackung einschließlich der von SÜSS MicroTec entwickelten Sprühbelackung für Strukturen mit hohen Aspektverhältnissen.

Nach Meinung von Don Tennant, dem technischen Leiter bei CNF, „bietet das Gamma-System von Süss MicroTec CNF genau die herausragenden Fähigkeiten in der Belackung, Aushärtung und Entwicklung, die gerade gebraucht werden. Dank seiner stabilen, reproduzierbaren Ergebnisse und der hohen Prozessflexibilität erfüllt es exakt die Bedürfnisse unserer Anwender. Diese Zusammenarbeit ermöglicht es uns, die neuen und vielversprechenden Technologien, die SÜSS MicroTec für die Gamma- und die MA/BA6-Plattformen entwickelt hat, zu nutzen. Wir sind schon sehr gespannt auf die bahnbrechenden Fortschritte, die unsere Anwender mit den neu geschaffenen Möglichkeiten erreichen werden.“

„Mit CNF konnten wir einen anerkannten Pionier der Nanoforschung als unseren Partner gewinnen.“, kommentierte Frank Averdung, Vorstandsvorsitzender der Süss MicroTec AG. „Insbesondere die Möglichkeit CNFs hochmoderne Forschungseinrichtungen für die Weiterentwicklung unserer Technologien zu nutzen stellt sich für uns als sehr positiv dar. Damit können wir unseren nordamerikanischen Kunden anbieten, ihre Prozesse zukünftig hier einzurichten und zu testen.“

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