Carl Zeiss SMT mit globalem Exklusivvertrieb für HAP Pellicle Removal Tools

Das Gerät dient der automatisierten und schonenden Entfernung von Schutzfolien auf photolithographischen Masken. Die Partner knüpfen damit an eine erfolgreiche Zusammenarbeit bei zurück- liegenden Entwicklungsprojekten an. „Wir sind froh, in HAP einen innovativen und zuverlässigen Partner gefunden zu haben, dessen Kompetenzen die unseren hervorragend ergänzen," erläutert Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsbereichsleiter der SMS Division. „Das System ermöglicht unseren Kunden, die Reinigung der hochsensiblen Photomasken noch prozesssicherer zu gestalten und damit letztlich Kosten zu sparen.“ Die Firma HAP entwickelt spezifische Lösungen für Wafer und Substrate der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. "Die Vetriebspartnerschaft mit Carl Zeiss generiert deutliche Synergien auf beiden Seiten. Wir können das weltweite Vertriebs- und Servicenetzwerk des Geschäftsbereichs SMS nutzen sowie deren weitreichende Marktkenntnisse in der Halbleiterindustrie. Im Gegenzug kann SMS seinen Kunden im Halbleitermarkt eine das eigene Portfolio ergänzende innovative Technologie anbieten.“ erklärt Dr. Steffen Pollack, Geschäftsführer HAP. Gegenstand der Vertriebsvereinbarung ist ein neues Gerät zur automatischen Entfernung des Pellicle (Rahmen mit einer Schutzfolie) von einer Photomaske mittels eines speziellen Thermoverfahrens. Derzeitiger Stand der Technik ist die manuelle Entfernung des Pellicle, die allerdings zu schädlichen Verunreinigungen oder schlimmstenfalls zur Zerstörung der Maske führen kann. Da Photomasken die kompletten Strukturinformationen eines Mikrochips tragen, sind sie ein entscheidendes Werkzeug in der Halbleiterfertigung. Vertragsunterzeichnung: Lothar Andritzke (GF HAP), Dr. Oliver Kienzle (GF SMS) und Dr. Steffen Pollack (GF HAP) (Reihe 1 von links nach rechts) bei der Vertragsunterzeichnung, unterstützt von C. Sänn, Dr. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (Reihe 2 v.l.n.r.)