Neben der Kapazitäts­erhöhung zielt diese Investition auf eine Qualitäts­ver­besserung, vor allem für techno­logisch aufwändige Leiterplatten mit feinsten Strukturen, ab. Die neue Anlage komplettiert das bereits letztes Jahr installierte hochauflösende AOI und den Laserdirektbelichtungs­prozess für Microleiter.