National Taiwan University bestellt Aixtron MOCVD-Anlage für weiße LEDs

Professor Chih-Chung (C. C.) Yang vom Institut für Photonik und Optoelektronik der National Taiwan University sagt: „Wir erforschen nitrid-basierende Mehrkomponenten-Halbleiter bereits seit einigen Jahren. Unsere Versuche erfordern eine stabile und verlässliche Anlage, die einen hohen Grad an Gemeinsamkeiten und Kompatibilität mit den in Taiwan bevorzugten Produktionstechnologien aufweist. Die Aixtron CCS-Forschungsplattform erfüllt nicht nur diese Anforderung sehr gut, sondern sie verfügt auch über ein sehr hohes Maß an Flexibilität. Insbesondere freuen wir uns, die dynamische Anpassung der Reaktorhöhe für das Schichtwachstum bei unterschiedlichem Reaktordruck einzusetzen. Wir sind beeindruckt von dieser einzigartigen Funktion und erwarten, dass sie uns dabei hilft, unser Prozessentwicklungsprogramm noch schneller voranzutreiben.” Das Team von Aixtron-Taiwan freut sich bereits, weitere Aufgaben innerhalb dieses Projekts zu übernehmen. Dr. Joe Yang, R&D- und Process Manager bei Aixtron Taiwan, der 2003 sein Studium bei der NTU abgeschlossen hat, fügt hinzu: „Unser Prozessteam ist natürlich sehr daran interessiert, speziell für dieses Projekt sein Bestes zu geben, um der NTU die besten Rahmenbedingungen für ihre bahnbrechende Forschungsarbeit zu bieten.” Die im Jahr 1928 gegründete National Taiwan University (NTU) ist heute eine der renommiertesten Universitäten in Taiwan und gehört zu den fünf besten Universitäten in Asien. Zu den Hauptthemen von Professor C. C. Yangs Institut für Photonik und Optoelektronik zählen u.a. die Erforschung von InGaN-Nanostrukturen für die Energietechnologie, die Epitaxie und Herstellung von Weißlicht- und polarisierten LEDs auf InGaN-Basis. Professor Yang hat sich einen ausgezeichneten Ruf auf dem Gebiet der Galliumnitrid-Forschung erworben und wird regelmäßig eingeladen, Vorträge auf internationalen Konferenzen zu halten. Er organisiert im Dezember 2009 die internationale Konferenz “White LED 2009”, die im letzten Jahr in Tokio stattfand. ----- MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung