Universität in Göteborg bestellt AIXTRON Nanotube-Anlage

Die Anlage, in der thermische und plasmagestützte CVD-Prozesse kombinierbar sind, soll im ersten Quartal 2009 ausgeliefert werden und wird für die Abscheidung von Kohlenstoffnanoröhren für Mikrokühler, Through Silicon Vias (TSV), Sensoren für CMOS-Chips und weitere auf Nanotechnologie basierende Bauteile verwendet. Prof. Johan Liu, Chalmers University of Technology sagte: „Für unsere Mikrokühler, TSV, Sensor- und Elektronik-Anwendungen benötigen wir wohldefinierte, vertikal ausgerichtete Kohlenstoffnanoröhren und genau dafür ist die AIXTRON CNT-Anlage optimiert. Die AIXTRON CNT-Forschungsplattform hat sich schon nachweislich bewährt. Die Anlage zeichnet sich nicht nur durch Reproduzierbarkeit und Verlässlichkeit in der Produktion aus sondern auch durch Ihre Flexibilität bei der Entwicklung neuer Prozesse.” Aixtron ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen (Chemical Vapor Deposition/CVD, Atomic Vapor Deposition/AVD und Atomic Layer Deposition/ALD) für die Halbleiterindustrie. Bis heute hat AIXTRON insgesamt über 1.500 Anlagen weltweit ausgeliefert. Mit dem neuen Technologiebereich AIXTRON-Nanoinstruments hat AIXTRON auch plasmagestützte CVD-Anlagen für die Produktion von Kohlenstoffnanoröhren und ähnlichen Nanomaterialien in sein Produktportfolio aufgenommen. Zu AIXTRONs Kunden im Bereich Nanotechnologie zählen El-Mul Technologies, Harvard University, MIT, Nanoconduction, Portland State University, Singapore Polytechnic, Santa Clara University, UC San Diego, Universität Tübingen und die Yale University. ----- CNT, Carbon Nanotubes = Kohlenstoffnanoröhren CVD, Chemical Vapor Deposition = Gasphasenabscheidung