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Leiterplatten | 22 Oktober 2007

AT&S entscheidet sich für Photec Photoresist

Nach einer umfangreichen Evaluierung hat sich nach Angaben von Enthone der Leiterplattenhersteller AT&S Austria Technologie & Systemtechnik AG für den Einsatz von PHOTEC Trockenfilmen entschieden.

Laut Enthone, einem Unternehmen von Cookson Electronics, kommen die von Hitachi Chemical produzierten und von Enthone in Europa in Lizenz vertriebenen Resists derzeit in der Serienfertigung im AT&S Werk Hinterberg in Österreich zum Einsatz und sollen im nächsten Jahr auch in den AT&S Asia-Pacific Werken verwendet werden. Derzeit prüft AT&S auch den Einsatz des speziell für d Laserbelichtung entwickelten Trockenfilms PHOTEC DL-1000, der ideal für 355 und 405 nm Applikation geeignet sein soll.
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