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Leiterplatten | 22 Oktober 2007

AT&S entscheidet sich für Photec Photoresist

Nach einer umfangreichen Evaluierung hat sich nach Angaben von Enthone der Leiterplattenhersteller AT&S Austria Technologie & Systemtechnik AG f√ľr den Einsatz von PHOTEC Trockenfilmen entschieden.
Laut Enthone, einem Unternehmen von Cookson Electronics, kommen die von Hitachi Chemical produzierten und von Enthone in Europa in Lizenz vertriebenen Resists derzeit in der Serienfertigung im AT&S Werk Hinterberg in √Ėsterreich zum Einsatz und sollen im n√§chsten Jahr auch in den AT&S Asia-Pacific Werken verwendet werden.
Derzeit pr√ľft AT&S auch den Einsatz des speziell f√ľr d Laserbelichtung entwickelten Trockenfilms PHOTEC DL-1000, der ideal f√ľr 355 und 405 nm Applikation geeignet sein soll.
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