Jenoptik investiert in hochmoderne Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage

Sie werde ein Kernelement bei der Entwicklung und Produktion anspruchsvollster Präzisionssensoren der nächsten Generation bilden, die für die Weiterentwicklung der DUV- und die Etablierung der hochgenauen EUV-Wafer-Belichtung in der Halbleiterfertigung unverzichtbar seien, schreibt das Unternehmen in einer Pressemitteilung. Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich, ungefähr 1/2.000stel eines Haares, auf bis zu 300mm großen Substraten „schreiben“. Jenoptik setzt dieses Verfahren unter anderem für die Herstellung von ultrapräzisen Mikrooptiken ein, die das funktionale Herzstück der Sensoren bilden. Hierbei werde die Präzision und Flexibilität der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage dazu beitragen, dass auch zukünftige Evolutionsstufen in der Halbleiterbelichtungstechnologie erfolgreich mit den benötigten Sensoren unterstützt werden können. Jenoptik ist an der Entwicklung und Einführung künftiger Lithografie-Technologien der Halbleiterfertigung beteiligt und greift dabei auf mehr als 150 Jahre Know-how in der Optik, Sensorik und Präzisionsmechanik zurück, das in der Division Light & Optics gebündelt ist.