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© suss microtec Elektronikproduktion | 10 Juni 2020

SÜSS MicroTec und micro resist technology kooperieren bei Nanoimprint-Lithografie-Entwicklung

SÜSS MicroTec,und micro resist technology GmbH, ein Unternehmen für die Entwicklung und Herstellung innovativer Fotoresiste und fortschrittlicher Nanoimprint-Materialien, haben die Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bekannt gegeben. NIL ist ein Schlüsselfaktor für die Revolution in der additiven Fertigung durch High-Fidelity-Musterübertragung.

Dieses UV-Härtungs-Prägeverfahren werde zunehmend eingesetzt bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen in der Photonik, wie zum Beispiel diffraktive optische Elemente in Augmented-Reality-Brillen oder für die Gesichtserkennung sowie für den Transfer von Mikro- und Nano-Strukturen, beispielsweise in optischen Sensoren, Laser-Nano-PSS (Patterned Sapphire Substrates) oder für den Fälschungsschutz. Die Anforderungen an die Nanoimprint-Lithografie und ihre Anwendungen ist in stetigem Wandel. Das grundlegende Ziel der Zusammenarbeit besteht daher darin, neu entstehende Anforderungen zu verstehen und hierfür Lösungen sowohl auf Prozess- als auch auf Materialebene zu implementieren, um so den hohen Herausforderungen der Industrie zu entsprechen. Ein qualitativ hochwertiger Imprint basiere auf drei Säulen: Equipment, Verfahren und Materialien. Die ersten beiden Säulen, Ausrüstung und Erfahrung in der Großserienfertigung, werden über das SUSS Imprint Excellence Center, einer gemeinsamen Unternehmung von SUSS MicroTec Lithography GmbH und SÜSS MicroOptics SA, bereitgestellt. Durch die Verbindung mit der dritten Säule, der chemischen Expertise des Nanoimprint-Materialanbieters, micro resist technology GmbH, wird diese Konstellation weiter ergänzt und gestärkt. Die Kombination dieser drei Säulen ermöglicht es, den hohen Bedarf der Industrie mit seinen immer anspruchsvolleren Anforderungen an die Replikation von Nanostrukturen besser abzudecken. „Das SUSS Imprint Excellence Center stützt sich auf jahrzehntelange Erfahrung im Bereich Imprint-Equipment und industrieller Prozessentwicklung für die Hochvolumenproduktion ", sagt Franz Richter, CEO von SÜSS MicroTec. „Eine weitere Stärkung dieses Clusters durch eine starke Partnerschaft mit einem führenden Resist-Lieferanten und erfahrenen Materialhersteller ist unabdingbar, um perfekte Imprint-Lösungen zu ermöglichen“. „Seit mehr als zwei Jahrzehnten liefert die micro resist technology (MRT) maßgeschneiderte Resist-Rezepturen für NIL rund um den Globus", sagt Gabi Grützner, CEO und Gründerin von MRT. „Durch unser profundes Know-how auf dem Gebiet der Polymerchemie und der Replikationsverfahren ist es uns möglich, hochmoderne Materiallösungen anzubieten. Diese decken eine steigende Anzahl von industriellen Anwendungsbereichen ab, bei denen die Replikationstechnologie für die Komponentenherstellung beispielsweise in der Unterhaltungselektronik eingesetzt wird“.
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2020.09.28 14:54 V18.10.14-2