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© toshiba Elektronikproduktion | 03 Juli 2017

Toshiba investiert in Fertigungsanlagen für Fab 6

Die Toshiba Corporation wird etwa JPY 180 Mrd. (EUR 1,4 Mrd.) in die Mikrochip-Fabrik Fab 6 am Standort Yokkaichi, die Flash-Speicher-Anlage von Toshiba Memory Corporation (TMC), investieren.
Die Investition wird die Installation von Fertigungsanlagen in Phase 1 der Fab (Mikrochip-Fabrik) und den Bau von Phase 2 abdecken. Die Produktion in Fab 6 wird ausschließlich dem BiCS Flash vorbehalten sein. Phase 1 der Fab soll im Sommer 2018 fertiggestellt werden. Durch die aktuelle Investitionsrunde wird sichergestellt, dass dieses Ziel erreicht werden kann.

Durch die Investition in Fab 6 wird TMC in der Lage sein, Fertigungsanlagen f√ľr 3D-Flash-Speicher mit 96 Schichten einschlie√ülich Depositions- und √Ątzanlagen zu installieren. Parallel dazu soll der Bau von Phase 2 von Fab 6 im September dieses Jahres beginnen. Die Fertigstellung ist f√ľr Ende 2018 geplant. Die spezifischen Produktkompetenzen und Zeitpl√§ne werden an der Marktnachfrage ausgerichtet.

TMC hat k√ľrzlich bei SanDisk, seinem Partner f√ľr Joint Ventures im Bereich der Investitionen in Fertigungseinrichtungen am TMC-Standort Yokkaichi, nachgefragt, ob Absichten hinsichtlich einer gemeinsamen Investition in die Fab-6-Anlage bestehen. Sofern SanDisk einer derartigen gemeinsamen Investition nicht zustimmt, wird TMC alleine in Fertigungseinrichtungen f√ľr separate TMC-Kapazit√§ten investieren.
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2019.01.17 14:20 V11.11.0-1