Fujifilm investiert 83 Millionen US-Dollar in Halbleitermaterialien in Indien

Der japanische Technologiekonzern Fujifilm plant den Aufbau einer neuen Produktionsstätte für Halbleitermaterialien in Indien. Wie die indische Nachrichtenagentur PTI berichtet, beläuft sich die geplante Gesamtinvestition auf rund 83 Millionen US-Dollar.

Die Investitionen sollen in zwei Phasen erfolgen und im Oktober 2026 beginnen. Der Start der kommerziellen Produktion ist für das Geschäftsjahr 2028 geplant.

In der ersten Phase will Fujifilm die Produktion von Chemikalien für Front-End-Prozesse in der Halbleiterfertigung aufbauen. Die zweite Phase soll sich auf Materialien zur Oberflächenbehandlung von Halbleitern sowie auf hochreine Chemikalien konzentrieren.

Mit der neuen Produktionsstätte will Fujifilm zugleich die Pläne Indiens zum Ausbau einer eigenen Halbleiterindustrie unterstützen.

„Fujifilm wird eng im Einklang mit der Vision der India Semiconductor Mission arbeiten und beabsichtigt, die Unterstützung der indischen Regierung im Rahmen der ISM-2.0-Politik zu nutzen, die im Juli 2026 von der indischen Regierung genehmigt wurde“, erklärte das Unternehmen laut PTI.

Mit der Investition erweitert Fujifilm seine Fertigungskapazitäten für Materialien, die in verschiedenen Prozessschritten der Halbleiterproduktion benötigt werden, und baut zugleich seine Präsenz im wachsenden indischen Halbleiterökosystem aus.