ASML könnte im Jahr 2028 mehr als 110 EUV-Systeme fertigen
Der niederländische Lithografieausrüster ASML prüft, wie er seine EUV-Fertigung 2028 auf mehr als 110 Systeme ausbauen kann. Darüber berichtete Reuters am 14. September unter Berufung auf JPMorgan-Analysten nach einem Treffen mit ASML-Finanzchef Roger Dassen. Für 2027 ist die verfügbare EUV-Kapazität nach Angaben des Unternehmens bereits weitgehend vergeben. Der mögliche weitere Ausbau soll die anhaltend starke, von KI-Anwendungen getriebene Nachfrage bedienen.
Mindestens 80 EUV-Systeme für 2027
Die EUV-Fertigung soll bei ASML in den kommenden Jahren deutlich wachsen. Im Juli bezifferte der Konzern seine Kapazität für das Jahr 2026 auf rund 65 Low-NA-EUV-Systeme. Ein Plus von rund 30 Prozent soll im Jahr 2027 mindestens 80 EUV-Anlagen ermöglichen. Für das Jahr 2028 untersucht ASML bereits einen weiteren Ausbau in ähnlicher Größenordnung.
Wie weit der Konzern seine Fertigung ausweiten kann, hängt JPMorgan zufolge derzeit von der Geschwindigkeit der EUV-Montage ab. Die Lieferkette begrenzt die Kapazität nach Einschätzung der Analysten derzeit nicht. Der Großteil der Bestellungen bezieht sich den Analysten zufolge inzwischen auf EUV-Systeme zur Auslieferung im Jahr 2028.
KI-Nachfrage treibt EUV-Bedarf
Die starke Nachfrage nach EUV-Systemen hält nach Angaben von JPMorgan an. Die Analysten beobachten einen höheren EUV-Einsatz pro Chip; Reuters zufolge treibt die KI-Nachfrage den Bedarf.
Ab dem Jahr 2028 soll die Einführung der nächsten EUV-Generation High-NA beginnen; größere Bedeutung dürfte sie nach Einschätzung von JPMorgan im folgenden Jahrzehnt gewinnen. Intel soll demnach im Jahr 2027 wieder zu einem bedeutenden ASML-Kunden werden. Für das kommende Jahr rechnen die Analysten außerdem mit steigenden Verkäufen an chinesische Speicherchiphersteller.
