China startet Produktion eigener DUV-Lithografiesysteme
Laut Reuters hat China mit der Serienproduktion selbst entwickelter Immersions-DUV-Lithografiesysteme (Deep Ultraviolet) begonnen. Die Technologie ist ein zentraler Bestandteil der modernen Halbleiterfertigung und markiert einen wichtigen Schritt in Pekings Bestrebungen, die Abhängigkeit von ausländischer Chipfertigungstechnologie zu verringern.
Die Produktion wird von der staatlichen Shanghai Aishengna Electronic Technology Group geleitet. Das Unternehmen bündelte dafür Entwicklungsteams mehrerer chinesischer Lithografie-Start-ups, darunter Shanghai Yuliangsheng Technology sowie Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). Reuters berichtet als erstes Medium über die Identität des Unternehmens.
Die neuen DUV-Systeme sollen noch in diesem Jahr an führende chinesische Halbleiterhersteller ausgeliefert werden, darunter SMIC, Hua Hong Semiconductor und ChangXin Memory Technologies (CXMT). Ziel ist es, chinesischen Chipproduzenten eine heimische Alternative zu westlichen Lithografiesystemen anzubieten – insbesondere für den Fall, dass Exportbeschränkungen weiter verschärft werden.
Nach Angaben von Reuters wird die Produktionskapazität zunächst jedoch begrenzt bleiben. Für 2026 sind rund fünf Anlagen vorgesehen, 2027 soll die Fertigung auf etwa 20 Systeme steigen. Zum Vergleich: ASML lieferte im vergangenen Jahr 131 Immersions-DUV-Systeme aus.
Trotz des technologischen Fortschritts stellen die chinesischen Anlagen kurzfristig keine ernsthafte Konkurrenz für ASML dar. Die Systeme müssen zunächst umfangreiche Tests hinsichtlich Präzision, Zuverlässigkeit und Kompatibilität durchlaufen und liegen laut Reuters sowohl bei der Leistung als auch bei der Fertigungsqualität weiterhin hinter den Produkten des niederländischen Marktführers zurück.
Die Entwicklung gilt dennoch als wichtiger Erfolg für Chinas Strategie zur technologischen Eigenständigkeit im Halbleitersektor, die zu den industriepolitischen Prioritäten von Präsident Xi Jinping zählt. Immersions-DUV-Lithografie ist derzeit die modernste Lithografietechnologie, auf die chinesische Hersteller zugreifen können, nachdem der Export von EUV-Lithografiesystemen nach China eingeschränkt wurde.
