AIXTRON errichtet neuen Produktions- und Entwicklungsstandort in Malaysia
Der deutsche Halbleiteranlagenhersteller AIXTRON will in Malaysia eine neue Fertigungs- und Entwicklungsstätte aufbauen. Das teilte das Unternehmen am 23. Juli mit. In Penang will AIXTRON künftig Anlagen für die Herstellung von Halbleitern auf Basis von Galliumnitrid, Indiumphosphid und Siliziumkarbid fertigen und eigene Engineering-Kapazitäten schaffen. Damit reagiert das Unternehmen auf den wachsenden Bedarf an energieeffizienter Leistungselektronik und schnellen Datenverbindungen für KI-Anwendungen.
Depositionsanlagen für Halbleiter der dritten Generation
In der neuen Fertigungsstätte sollen künftig Depositionssysteme entstehen, mit denen Chiphersteller Bauelemente auf Basis von Galliumnitrid, Indiumphosphid und Siliziumkarbid produzieren können. Laut Mitteilung soll der Standort auch technische Entwicklungsaufgaben übernehmen und ein Customer-Service-Support-Center erhalten. Verbindungshalbleiter kommen bei der verlustärmeren Stromwandlung in Rechenzentren, Energienetzen und Elektrofahrzeugen sowie in schnellen optischen Datenverbindungen zum Einsatz.
Für den Aufbau des neuen Standorts sucht AIXTRON derzeit Personal für rund 150 Stellen. Mit der Ansiedlung von Fertigung und Entwicklung in Penang trägt das Unternehmen nach Angaben der malaysischen Investitionsbehörde auch zur nationalen Halbleiterstrategie bei. Das Land will bis 2030 insgesamt 60.000 qualifizierte Fachkräfte für die Branche ausbilden. AIXTRON soll dieses Ziel durch die Einstellung und Qualifizierung seiner Beschäftigten vor Ort fördern.
Dr. Felix Grawert, CEO von AIXTRON, erklärte: „Mit unserem neuen Standort in Penang bringen wir Frontend-Anlagenfertigung, Engineering-Kapazitäten und unser neues Customer-Service-Support-Center näher an eines der dynamischsten Halbleiter-Ökosysteme der Welt.“
