imec erhält weltweit fortschrittlichstes High-NA-EUV-System
Das belgische Forschungszentrum imec hat das weltweit fortschrittlichste High-NA-EUV-Lithographiesystem erhalten und damit einen wichtigen Meilenstein für die Entwicklung der nächsten Generation von Halbleitern erreicht.
Das System wurde vom niederländischen Lithographie-Spezialisten ASML geliefert und gilt als Schlüsseltechnologie für zukünftige Chipgenerationen. Es ermöglicht deutlich kleinere Strukturen sowie leistungsfähigere und energieeffizientere Bauteile.
Die Anlage wird am imec-Standort in Leuven installiert und bildet das Herzstück einer neuen europäischen Pilotlinie zur Entwicklung von Fertigungsprozessen für Chips unterhalb der 2-Nanometer-Grenze. Ziel ist es, Europas Position im globalen Halbleitermarkt zu stärken und Innovationen schneller in industrielle Anwendungen zu überführen.
High-NA-EUV stellt die nächste Evolutionsstufe der EUV-Lithographie dar und ermöglicht eine deutlich höhere Auflösung sowie vereinfachte Prozessschritte in der Chipfertigung. Dadurch können komplexe Strukturen effizienter hergestellt und die Leistungsfähigkeit zukünftiger Chips weiter gesteigert werden.
Mit dem neuen System erhalten Industriepartner Zugang zu modernster Infrastruktur, um neue Technologien zu testen und schneller in die industrielle Praxis zu bringen. imec arbeitet dabei eng mit Halbleiterherstellern, Ausrüstern und Forschungseinrichtungen zusammen.
Die Installation unterstreicht die strategische Bedeutung Europas im globalen Halbleiterwettbewerb, insbesondere im Hinblick auf die steigende Nachfrage nach Hochleistungschips für Anwendungen wie künstliche Intelligenz.
