Imec stellt modernstes High-NA-EUV-System der Welt vor
Das belgische Forschungszentrum imec hat das High-NA-EUV-Lithografiesystem ASML EXE:5200 in seinem 300-Millimeter-Reinraum in Leuven offiziell vorgestellt. Das geht aus einer Pressemitteilung von imec vom 18. März 2026 hervor. Die Anlage soll Entwicklungsschritte bei Strukturierungsverfahren für Logikchips unter 2 Nanometern und bei künftigen Speichertechnologien beschleunigen. Imec zielt damit auf Technologien, die vor allem für KI und High-Performance-Computing an Bedeutung gewinnen.
High-NA-EUV soll Lernzyklen für Sub-2-nm-Logik und hochdichte Speichertechnologien verkürzen
In Leuven integriert imec das EXE:5200 direkt in seine Strukturierungs- und Messtechnik sowie in die eingesetzten Materialprozesse. Damit will das Forschungszentrum die Arbeit an High-NA-EUV-Prozessen schneller in Richtung industrieller Anwendung bringen. Im Zentrum stehen dabei Sub-2nm-Logik und künftige hochdichte Speicher, für die kürzere Lernzyklen und verbesserte Prozessstabilität entscheidend sind. Nach Angaben von imec bringt das System dafür vor allem bei Auflösung, Overlay und Durchsatz zusätzliche Spielräume. Hinzu kommt ein neuer Wafer-Stocker, der die Prozessstabilität verbessern und den Durchsatz erhöhen soll.
Luc Van den hove, CEO von imec, sagte: „Mit der Installation des EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystems in unserem 300-mm-Reinraum in Leuven (Belgien) wollen wir diese High-NA-EUV-Strukturierungstechnologien auf ein für die Industrie relevantes Level bringen und Anwendungsfälle für die High-NA-EUV-Strukturierung der nächsten Generation entwickeln. Die unübertroffene Auflösung, die verbesserte Overlay-Leistung, der hohe Durchsatz und ein neuer Wafer-Stocker, der die Prozessstabilität und den Durchsatz verbessert, werden unseren Partnern einen entscheidenden Vorteil bei der schnelleren Entwicklung von Chip-Technologien kleiner als 2 nm verschaffen.“
EU, Flandern und Niederlande stützen die High-NA-Partnerschaft
Der Meilenstein ist Teil einer auf fünf Jahre angelegten strategischen Partnerschaft zwischen imec und ASML. Unterstützt wird sie von der EU über das Chips Joint Undertaking und IPCEI sowie von der flämischen und der niederländischen Regierung. Imec ordnet die Anlage zudem in die von der EU finanzierte NanoIC-Pilotlinie ein. Das Forschungszentrum sieht darin einen Beitrag, um Europas Position in der Forschung und Entwicklung zu fortschrittlichen Halbleitern langfristig zu stärken.
Christophe Fouquet, CEO von ASML, erklärte: „Die Installation des EXE:5200 bei Imec markiert einen wichtigen Schritt in das Ångström-Zeitalter. Gemeinsam treiben wir die Weiterentwicklung von EUV-Technologie mit hoher numerischer Apertur (High NA) für die nächsten Generationen fortschrittlicher Speicher- und Rechentechnologie voran.“