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EUV-system
© ASML
Elektronikproduktion |

ASML stellt EUV-Upgrade vor – 50 % mehr Chipproduktion bis 2030 möglich

ASML hat eine weiterentwickelte EUV-Lichtquelle für seine Lithografiemaschinen vorgestellt, mit der die Chipproduktion bis zum Ende des Jahrzehnts um bis zu 50 % gesteigert werden könnte. Darüber berichtet die Nachrichtenagentur Reuters.

ASML ist das einzige Unternehmen weltweit, das kommerzielle EUV-Lithografieanlagen herstellt – Maschinen, die oft als „die wichtigsten Maschinen der Welt“ bezeichnet werden und von Chipproduzenten wie TSMC und Intel zur Fertigung modernster Halbleiter eingesetzt werden.

Nach Angaben von Michael Purvis, leitender Technologe für EUV-Lichtquellen bei ASML, kann das neue System dauerhaft eine EUV-Leistung von 1.000 Watt unter realen Kundenbedingungen liefern. „Es ist kein Vorführeffekt“, sagte Purvis laut Reuters in einem Interview am ASML-Standort in Kalifornien.

Die Leistungssteigerung von bisher 600 auf 1.000 Watt ermöglicht es Chipherstellern, die Belichtungszeiten auf Siliziumwafern zu verkürzen. Dadurch erhöht sich die Anzahl der pro Stunde produzierten Chips, während gleichzeitig die Stückkosten sinken. Teun van Gogh, Executive Vice President der NXE-Produktlinie bei ASML, erklärte gegenüber Reuters, dass Kunden bis 2030 etwa 330 Wafer pro Stunde pro Maschine verarbeiten könnten – gegenüber derzeit rund 220. Je nach Chipgröße können auf einem Wafer Dutzende bis Tausende einzelner Bauteile entstehen.

Die EUV-Technologie arbeitet mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern und projiziert extrem ultraviolettes Licht auf mit Fotolack beschichtete Siliziumwafer. Das Licht entsteht, indem winzige Zinntropfen mithilfe von CO₂-Lasern zu Plasma erhitzt werden. Laut Reuters verdoppelt die neue Technik die Anzahl der Zinntropfen auf etwa 100.000 pro Sekunde und formt diese mithilfe von zwei Laserimpulsen statt einem zu Plasma.

EUV-Anlagen sind entscheidend für die Produktion modernster Halbleiter. Die US-Regierung arbeitet gemeinsam mit den niederländischen Behörden daran, den Export der ASML-Technologie nach China zu beschränken. Dies hat in China Initiativen zur Entwicklung eigener Alternativen angestoßen.


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