ITRI beginnt Bau eines Advanced Semiconductor R&D Centre in Hsinchu
Das Industrial Technology Research Institute (ITRI) hat am Hauptsitz in Hsinchu, Taiwan, den Grundstein für ein neues Advanced Semiconductor R&D Centre gelegt.
Das Zentrum wird gemeinsam vom taiwanischen Wirtschaftsministerium, dem National Development Council sowie dem National Science and Technology Council entwickelt. Laut ITRI soll die Einrichtung insbesondere kleine und mittelständische IC-Design-Unternehmen sowie Start-ups unterstützen, indem technologische Verifizierungsprozesse vereinfacht und der Weg von der Forschung zur industriellen Umsetzung verkürzt wird.
Die Fertigstellung ist für Ende 2027 geplant. Das Zentrum wird sich auf drei Kernbereiche konzentrieren: IC-Design-Verifikation, Entwicklung fortschrittlicher Fertigungsprozesse sowie die lokale Validierung von Halbleiterausrüstung und -materialien. Vorgesehen ist unter anderem Taiwans erste 12-Zoll-Advanced-Pilotlinie, die von einer Forschungseinrichtung betrieben wird, ergänzt durch modernisierte 8-Zoll-Anlagen. Ziel ist es, Chipdesign, Fertigung, Packaging und Test in einer integrierten Umgebung zu verknüpfen.
Nach Angaben von ITRI wird das Zentrum F&E- und Pilotproduktionsdienstleistungen im Bereich Back-End-of-Line (BEOL) für Strukturgrößen zwischen 28 und 90 Nanometern anbieten. Die Entwicklungszyklen neuer Produkte sollen dadurch um rund 30 Prozent verkürzt werden.
Darüber hinaus soll die Einrichtung Forschungsarbeiten in Bereichen wie Silizium-Photonik, anwendungsspezifischen integrierten Schaltungen (ASICs), 3D-Integration, Next-Generation-Memory sowie quantenbezogenen Technologien unterstützen.
Mit dem Projekt will ITRI das taiwanische Halbleiter-Innovationsökosystem stärken und die Zusammenarbeit zwischen Industrie, Wissenschaft und Zulieferkette weiter ausbauen.
