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© dimitry romanchuck dreamstime.com Elektronikproduktion | 13 März 2013

Transphorm: Umstellung auf 200 mm-Wafer mit Aixtron

Der US-amerikanische Hersteller Transphorm Inc. hat im vierten Quartal 2012 eine AIX G5+-Anlage von Aixtron bestellt.

Mit dem für 5x200 mm (5x8-Zoll) Wafer konfigurierten Reaktor will Transphorm die Kapazitäten für seine GaN-auf-Si-Produktion ausbauen. Die Auslieferung erfolgt im zweiten Quartal 2013. „Bei der neuen Bestellung ging es uns neben der Kapazitätssteigerung auch darum, unsere Leistungsfähigkeit von 150 mm auf 200 mm Wafer zu steigern und die damit verbundenen Skalierungseffekte vollständig auszuschöpfen“, so Transphorm-Geschäftsführer Primit Parikh. „Größere Wafer senken zudem die Betriebskosten. Daher werden wir uns in Zukunft noch stärker auf diese Technologie konzentrieren." „Aixtron hat die G5+ passgenau auf die Anforderungen von Kunden wie Transphorm entwickelt“, so Dr. Frank Wischmeyer, Vice President und Programm-Manager für Leistungselektronik bei Aixtron. „GaN-auf-Si entwickelt sich rasant – also erwartet die Branche auch, dass wir kurzfristig kommerzielle Produkte zur Verfügung stellen. Erfolgreich kann diese Technologie jedoch nur sein, wenn sie höchste Qualitätsstandards mit niedrigsten Betriebskosten verbindet.“ Die Anlage sei so entwickelt worden, dass sie über viele Produktionsläufe hinweg stabile und homogene Prozesse auf großen Wafern liefert. Bereits 2010 bestellte Transphorm die erste Aixtron Anlage – eine AIX 2800G4 HT in einer 6x150 mm Waferkonfiguration. „Der Reaktor ist äußerst leistungsfähig“, so Herr Parikh, „wir erwarten daher, dass wir den anstehenden Schritt auf größere Wafer genauso mühelos und schnell vollziehen können."
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2019.04.20 11:13 V13.1.0-1