NCHU in Taiwan setzt auf Aixtron CCS-Anlage

Mit dem neuen Showerhead-Reaktor will die NCHU das heteroepitaxiale Wachstum von Galliumnitrid-Legierungen auf Siliziumwafern (GaN-auf-Si) erforschen. Ein Serviceteam von Aixtron Taiwan hat die Anlage in einem Reinraum der Universität in Taichung, Taiwan, installiert und in Betrieb genommen. „Die Close Coupled Showerhead-Anlage eignet sich ideal für unsere Forschung im Bereich GaN-auf-Si“, erklärt Professor Wuu von der Abteilung Material- und Ingenieurswissenschaften. „Diese Einschätzung beruht auf meiner langjährigen Erfahrung mit den technischen Herausforderungen dieses Materials und wird weltweit von führenden Wissenschaftlern geteilt, die das Aixtron MOCVD-System einsetzen.“ „Der Reaktor hat Vielseitigkeit, anwenderfreundliche Bedienung und Reproduzierbarkeit in allen für uns interessanten Parametern bewiesen“, fügt Professor Horng vom Graduierteninstitut für Feinwerktechnik der NCHU hinzu. „Damit sind wir in der Lage, hochwertige GaN-auf-Si-Schichten und andere neuartige Materialien zu produzieren.“ Das Forschungsteam um Professor Wuu und Professor Horng an der NCHU hat seit 2001 zahlreiche einzigartige LED-Technologien auf Galliumnitrid (GaN) sowie auf Aluminium-Gallium-Indium-Phosphid (AlGaInP) entwickelt. Inzwischen zählt das integrierte Labor zu den führenden Forschungszentren Taiwans und deckt alle Themen von epitaktischem Wachstum bis zur Prozessierung von Bauelementen und Packaging ab. Etliche der in Zusammenarbeit mit der Industrie realisierten Projekte wurden durch den nationalen Wissenschaftsausschuss Taiwans ausgezeichnet. Die National Chung Hsing University ist die einzige staatliche Universität Taiwans mit einem weit gefächerten Forschungs- und Lehrangebot. Investitionen fließen in die Exzellenzzentren Biotechnologie, Nanobiomimetik sowie in die Abteilung für moderne Präzisionsinstrumente. Die Hochschule strebt für die nächsten fünf Jahre eine führende Position weltweit an.