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Leiterplatten | 27 Juli 2011

Atotech lizenziert Enthones Chemisch Zinn Technologie

Enthone Inc., ein Unternehmen der Cookson Electronics, hat Atotech Deutschland GmbH (Berlin) eine Lizenz des Chemisch Zinn-Patents (US-Patentnummer: 6.821.323) erteilt.
Das Enthone-Patent umfasst eine Technologie, die die Neigung zur Whiskerbildung reduziert. Enthones Chemisch Zinn-Patent erm√∂glicht es, Metalle wie z.B. Silber in die Zinn-Prozessl√∂sung einzubauen. Das Patent ist registriert und in Europa, Asien und den Vereinigten Staaten g√ľltig. Die Bedingungen des Lizenzvertrags bleiben vertraulich.

Dr. Bernhard Wessling, Enthones Global Director f√ľr die Ormecon-Produkte, sagte: "Das jetzt an Atotech lizenzierte Enthone-Patent wird nicht in der Rezeptur des bekannten Ormecon CSN Classic, Chemisch Zinn f√ľr die Leiterplattenherstellung (PWB), verwendet. Stattdessen wird im Pre-Dip eine unverkennbare Technologie auf Organischem Metall ¬ģ eingesetzt, die eine verh√§ltnism√§√üig gro√üe Kornstruktur der Zinnschicht herbeif√ľhrt und die Bildung des IMC vermindert, wodurch eine Whiskerbest√§ndigkeit des Chemisch Zinn erreicht wird.“
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