Atotech lizenziert Enthones Chemisch Zinn Technologie

Das Enthone-Patent umfasst eine Technologie, die die Neigung zur Whiskerbildung reduziert. Enthones Chemisch Zinn-Patent ermöglicht es, Metalle wie z.B. Silber in die Zinn-Prozesslösung einzubauen. Das Patent ist registriert und in Europa, Asien und den Vereinigten Staaten gültig. Die Bedingungen des Lizenzvertrags bleiben vertraulich. Dr. Bernhard Wessling, Enthones Global Director für die Ormecon-Produkte, sagte: "Das jetzt an Atotech lizenzierte Enthone-Patent wird nicht in der Rezeptur des bekannten Ormecon CSN Classic, Chemisch Zinn für die Leiterplattenherstellung (PWB), verwendet. Stattdessen wird im Pre-Dip eine unverkennbare Technologie auf Organischem Metall ® eingesetzt, die eine verhältnismäßig große Kornstruktur der Zinnschicht herbeiführt und die Bildung des IMC vermindert, wodurch eine Whiskerbeständigkeit des Chemisch Zinn erreicht wird.“