Dresdner Jenoptik erhält Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage
Der Photonik-Konzern Jenoptik investiert einen niedrigen zweistelligen Millionenbetrag in den Anlagenpark der derzeit entstehenden Hightech-Fab in Dresden. Mit der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage werden zukünftig hochpräzise mikrooptische Komponenten für Kunden aus dem Halbleiterbereich und der optischen Kommunikation hergestellt.
Wie es in einer Pressemitteilung heißt, erfolge die Lieferung der Anlage Anfang 2025. Hersteller ist der in Jena ansässige E-Beam-Technologiespezialist Vistec Electron Beam GmbH. Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage könne Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich (ungefähr 1/2.000stel eines Haares) auf bis zu 300 mm großen Substraten „schreiben“.
Die Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage Vistec SB3050-2 basiert auf dem sogenannten variablen Formstrahl-Prinzip, mit dem auch große Flächen hochgenau und effektiv strukturiert werden können. Der hohe Automatisierungsgrad, bei gleichzeitiger Flexibilität in Bezug auf nutzbare Substrate, sind weitere Eigenschaften der Vistec SB3050-2, die deren Einsatz in industrieller Umgebung ermöglichen.
Jenoptik ist bereits seit 2007 in Dresden aktiv. Mit der neuen Hightech-Fab im Airportpark Dresden bündelt das Unternehmen die aktuell über mehrere kleine Außenstandorte verteilte Fertigung, gleichzeitig werden die Kapazitäten erweitert. So erstreckt sich die Reinraumproduktion in der neuen Fab auf 2.000 Quadratmetern mit Reinraumbereichen der Klassen ISO 5 und 3 und genügt höchsten Anforderungen an Schwingungsfreiheit und Temperaturkonstanz.
