Imec und Mitsui Chemicals mit strategischer Partnerschaft
Imec und Mitsui Chemicals haben den Beginn einer strategischen Partnerschaft zur Kommerzialisierung von auf Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) basierenden Pellikeln für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUV) bekannt gegeben.
Im Rahmen dieser Partnerschaft will Mitsui Chemicals die grundlegende CNT-basierte Pellicle-Innovation von imec in die Pellicle-Technologie von Mitsui Chemicals integrieren, um die vollen Produktions-Spezifikationen zu erreichen, mit dem Ziel der Einführung in Hochleistungs-EUV-Systeme im Zeitrahmen 2025 bis 2026. Die Unterzeichnung fand in Tokio während der Semicon Japan 2023 statt.
Die strategische Partnerschaft sieht vor, die Membran und das EUV-Pellikel gemeinsam zu entwickeln, und zwar durch gemeinsame Abstimmung und Validierung des EUV-Scanners durch imec für die Kommerzialisierung bei Mitsui Chemicals. Diese Pellikel, die die Fotomaske während der EUV-Belichtung vor Verunreinigungen schützen sollen, haben eine extrem hohe EUV-Durchlässigkeit (≧ 94 %), eine sehr geringe EUV-Reflexion und einen minimalen optischen Einfluss - kritische Eigenschaften für eine hohe Ausbeute und einen hohen Durchsatz in der modernen Halbleiterfertigung.
Die CNT-Pellikel sind außerdem in der Lage, EUV-Leistungspegel von mehr als 1 kW auszuhalten und unterstützen damit die zukünftige Roadmap für EUV-Quellen (>600 W). Diese Eigenschaften haben ein starkes Interesse von Unternehmen geweckt, die EUV-Lithographie in der Großserienfertigung einsetzen. Daher wollen beide Parteien gemeinsam industrietaugliche CNT-Pellikel entwickeln, um die Anforderungen des Marktes zu erfüllen.
„Imec hat eine lange Tradition in der Unterstützung des Halbleiter-Ökosystems, um die Lithografie-Roadmap voranzutreiben. Seit 2015 haben wir mit Partnern aus der gesamten Lieferkette zusammengearbeitet, um ein innovatives CNT-basiertes Pellicle-Design für die fortschrittliche EUV-Lithographie zu entwickeln", sagt StevenScheer, Senior Vice President Advanced Patterning, Process and Materials bei imec.
Gemeinsam hoffe man, CNT-Pellikel für zukünftige Generationen der EUV-Lithographie in die Produktion zu bringen, heißt es dazu weiter.
Die Lithografie-Roadmap sieht die Einführung neuer Pellikel im Zeitrahmen 2025 bis 2026 vor, das heißt, wenn die nächste Generation der ASML 0,33NA EUV-Lithografiesysteme Lichtquellen mit einer Leistung von 600W und mehr unterstützen wird. Dieser Zeitrahmen steht im Zusammenhang mit der Einführung von Logik-Technologieknoten jenseits von 2nm.
