Silicon Austria Labs und EV Group verstärken Zusammenarbeit
Die EV Group (EVG) und Silicon Austria Labs (SAL), Österreichs Forschungszentrum für elektronikbasierte Systeme (EBS), haben jetzt bekannt gegeben, dass SAL mehrere Lithographie- und Resistverarbeitungssysteme von EVG in seinem MicroFab F&E-Reinraum im österreichischen Villach erhalten und in Betrieb genommen hat. Die Installationen sind Teil einer vertieften Zusammenarbeit zwischen den beiden Unternehmen.
Dazu gehörten auf Waferebene gefertigte Optiken, die für Mikrokameras und Mikrospiegel verwendet werden, diffraktive Optiken sowie optische Einheiten, die im Automotive-Bereich neue Lösungen für das autonome Fahren und die Fahrzeugbeleuchtung ermöglichen, heißt es in einer Mitteilung. Zu den neu installierten Anlagen von EVG gehören das maskenlose Belichtungssystem LITHOSCALE, das automatisierte SmartNIL Nanoimprint- und Wafer-Level-Optiksystem EVG 7300 sowie mehrere zugehörige Resistverarbeitungssysteme.
Diese Systeme würden die bereits bei SAL installierte Basis, bestehend aus mehreren EVG-Bonding-, Maskalignment- und Lithographiesystemen ergänzen. Dazu gehört auch die Erstinstallation der nächsten Generation des automatisierten 200-mm-Resistverarbeitungssystems EVG 150, das im Vergleich zur Vorgängergeneration einen deutlich höheren Durchsatz, mehr Flexibilität und einen verringerten Platzbedarf aufweise, heißt es weiter.
Darüber hinaus arbeitet SAL eng mit dem Technologie- und Anwendungsentwicklungsteam am EVG-Hauptsitz, wo sich auch das NILPhotonics-Kompetenzzentrum befindet, zusammen. Ziel ist es demnach, das Anlagen- und Prozess-Know-how von EVG zu nutzen und Prozesse zu entwickeln, die auf die Großserienfertigung übertragbar und skalierbar sind.
„Wir haben in letzter Zeit eine Reihe hochmoderner F&E-Projekte in den Bereichen Meta-Optics, integrierte Photonik und MEMS durchgeführt, die den Einsatz fortschrittlichster Lithographie- und Bonding-Systeme erfordern. Durch unsere Partnerschaft mit EVG haben wir Zugang zu besonders zuverlässigen und präzisen Anlagen, die für erfolgreiche F&E-Projekte unabdingbar sind. Insbesondere das EVG7300 SmartNIL-System hat sich als zentrales Tool erwiesen, um die Massenproduktion von Nanostrukturen für neue Photonik- und MEMS-Bauteile zu ermöglichen“, sagt Dr. Mohssen Moridi, Head of Research Division Microsystems bei Silicon Austria Labs.
Das maskenlose Belichtungssystem LITHOSCALE von EVG erfülle die Lithographieanforderungen von Märkten und Anwendungen, die ein hohes Maß an Flexibilität oder Produktvielfalt erfordern. Durch die Kombination leistungsfähiger digitaler Prozesse zur Datenübertragung in Echtzeit und sofortigen Belichtung mit hoher Strukturierungsauflösung und Skalierbarkeit des Durchsatzes beseitige es bisherige Engpässe.
„Silicon Austria Labs ist ein führendes Forschungszentrum für die optische Miniaturisierung und heterogene Integration und ein strategischer Partner für EV Group. Diese jüngste Lieferung und Installation unserer Lithographie- und Resistverarbeitungssysteme stärkt die Zusammenarbeit weiter und erweitert die Möglichkeiten von SAL, zukünftige Schlüsseltechnologien zu entwickeln und unsere führenden Lösungen in realen industriellen Anwendungen einzusetzen“, so Thomas Glinsner, Corporate Technology Director bei EV Group.
