ZEISS expandiert am Forschungsstandort Roßdorf
Der erste Spatenstich ist gesetzt: Die Halbleitersparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) der ZEISS Gruppe investiert in ihren hessischen Standort Roßdorf. Wie es in einer Pressemitteilung heißt, reagiere das Unternehmen mit neuen Reinräumen und der Schaffung weiterer Arbeitsplätze auf die starke Nachfrage nach Halbleiterfertigungsequipment.
Die Expansion am Standort Roßdorf schafft 300 Quadratmeter zusätzliche Reinraumflächen – ein Plus von 50 Prozent gegenüber dem Status quo. Außerdem wird das Bestandsgebäude umfangreich modernisiert, die Parkflächen und die Logistikhalle erweitert und später voraussichtlich um ein Bürogebäude ergänzt.
„Unsere neuen Reinräume werden eine noch höhere Reinraumqualität haben und bieten eine nahezu vibrationslose Umgebung. Das ist entscheidend, um optimale Voraussetzungen für die Weiterentwicklung der Maskenreparaturtechnologie zu schaffen“, sagt Dr. Patrick Villwock, Standortleiter in Roßdorf.
Insgesamt investiert ZEISS bis Ende 2026 mehr als 20 Millionen Euro in das Bauvorhaben und die technische Ausstattung des Standorts.
„Mit der Standorterweiterung wollen wir Platz für weiteres Wachstum schaffen, um bei Fortsetzung der Marktentwicklung der vergangenen Jahre unsere Belegschaft langfristig auf bis zu 300 Mitarbeitende zu erhöhen“, so Patrick Villwock.
Am Standort in Roßdorf forscht ZEISS SMT vor allem im Bereich Nanostrukturierung und entwickelt Maskenreparatursysteme für die weltweite Halbleiterindustrie. Mithilfe des sogenannten MeRiT®-Systems von ZEISS, das auf Elektronenstrahltechnologie basiert, können kleinste Defekte auf Photomasken mit Nanometer-Präzision repariert werden. Nach Unternehmensangaben würden alle großen Halbleiterhersteller auf der Welt die Systeme von Zeiss verwenden um Photomasken zu reparieren.
