Furukawa in Japan setzt auf AIXTRONs MOCVD-Technologie
AIXTRON SE, Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat einen Auftrag über eine AIX 2800G4 MOCVD-Anlage von FURUKAWA FITEL OPTICAL DEVICE CO., einem in Japan ansässigen Hersteller von Verbindungshalbleitern, erhalten. Wie das Unternehmen mitteilt, wird die Anlage für die Entwicklung und Produktion von optoelektronischen Bauelementen auf der Basis von Galliumarsenid und Indiumphosphid eingesetzt.
Die AIX 2800G4-Plattform ist die etablierte und nach eigenen Angaben marktführende Anlage für die Produktion verschiedener Halbleiterbauelemente aufgrund des Planetary Reactor®-Konzepts in Bezug auf die Kontrolle der Schichtdicken und der Wellenlängenhomogenität von Epitaxieschichten. Das System für die Großserienfertigung biete höchste Effizienz beim Einsatz der Rohstoffe und liefere dank der Prozesskontrolle auf Waferebene hervorragende Erträge für modernste optische Bauelemente.
„Wir freuen uns sehr, dass Furukawa einer unserer G4-Nutzer wird. Die Plattform ist der zuverlässige und etablierte Industriestandard für die anspruchsvollsten Epitaxieanforderungen und hat zum Erfolg vieler Kunden beigetragen. Mit unserem Team von Hardware- und Prozessexperten in Japan freuen wir uns auf diese neue Zusammenarbeit und unterstützen Furukawa dabei, die Plattform schnell für ihre bestehenden und zukünftigen Produkte zu nutzen”, sagt Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE.
