Okmetic investiert 400 Millionen Euro in Finnland
Der Siliziumwafer-Hersteller Okmetic investiert fast 400 Millionen Euro in den Bau einer neuen Fabrik in Finnland mit dem Ziel, die Produktionskapazität und das Geschäft mehr als zu verdoppeln. Das hat das Unternehmen jetzt mitgeteilt.
Die neue Produktionsstätte wird neben der derzeitigen Siliziumwafer-Fabrik in Vantaa vor den Toren Helsinkis errichtet. Mit der Investition sollen die Produktionskapazität und die Geschäftstätigkeit des Unternehmens mehr als verdoppelt und über 500 neue Arbeitsplätze geschaffen werden. Die Bauarbeiten werden spätestens Anfang 2023 beginnen, und die Fabrik soll im Jahr 2025 in Betrieb genommen werden. Da die Nachfrage nach Siliziumwafern aufgrund der zunehmenden Verbreitung elektronischer Komponenten stark ansteigt, trage die Investition dazu bei, die wachsende Nachfrage der Kunden zu befriedigen.
Okmetic liefert fortschrittliche, kundenspezifische Siliziumwafer für die Herstellung von MEMS-, Sensor-, HF- und Leistungsbauelementen. Es handelt sich bei den 400 Millionen Euro um die größte Investition in der Geschichte von Okmetic. In den vergangenen fünf Jahren hat das Unternehmen mehr als 100 Millionen Euro in die Erhöhung der Produktionskapazität seiner Fertigungsstätte in Vantaa investiert. Die Bauarbeiten werden spätestens Anfang 2023 beginnen, und die Produktionsstätte soll im Jahr 2025 in Betrieb genommen werden.
„Wir verzeichnen bereits seit mehreren Jahren ein starkes Wachstum, und die Marktprognosen deuten darauf hin, dass sich die positive Entwicklung in der Halbleiterindustrie fortsetzen wird. Die neue Fabrik wird die Position des Unternehmens auf dem Markt stärken und den Grundstein für die künftige Entwicklung unseres Geschäfts legen. In einem größeren Zusammenhang kann die Investition auch als Teil des europäischen Vorstoßes zu mehr Autarkie in der globalen Halbleiter-Wertschöpfungskette gesehen werden. Das Hauptaugenmerk wird jedoch auf den globalen Märkten liegen", sagt Kai Seikku, Präsident und CEO von Okmetic.
Die neue Produktionsstätte mit einer Fläche von über 40.000 Quadratmetern (Reinraumfläche ca. 6.000 Quadratmeter) wird neben der derzeitigen Produktionsstätte errichtet, um die Synergien zwischen beiden zu maximieren. Die Produktion in der neuen Fabrik wird sich hauptsächlich auf die derzeitigen Produkte und Märkte konzentrieren. Die SOI-Produktion (Silicon-On-Insulator) wird in der derzeitigen Fabrik zentralisiert, während die Produktion von 200-mm-DSP-Wafern (Double Side Polished) und SSP-Wafern (Single Side Polished) sowie die Kristallzucht in die neue Fabrik verlegt werden.
