Startschuss für 'Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland'

Die bisherigen Standorte der Institute bleiben dabei erhalten, der Ausbau und der Betrieb werden in einer gemeinsamen Geschäftsstelle koordiniert und organisiert. Mit Hilfe der Forschungsfabrik soll die Position der europäischen Halbleiter- und Elektronikindustrie im globalen Wettbewerb gestärkt werden. Der Fokus der institutsübergreifenden Arbeit wird auf vier zukunftsrelevanten Technologiebereichen liegen – 'Silizium-basierte Technologien', 'Verbindungshalbleiter und Sondersubstrate', 'Heterointegration' und 'Design, Test und Zuverlässigkeit'. Die Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland wird mehr als 2'000 wissenschaftliche Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter sowie die notwendige Ausstattung für die technologische Forschung und Entwicklung unter einem virtuellen Dach neu organisieren. Mittelfristig sollen durch die Maßnahme weitere 500 hochqualifizierte Arbeitsplätze geschaffen werden. Das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) unterstützt die dazu nötigen Investitionen von insgesamt EUR 280 Mio. für Fraunhofer und EUR 70 Mio. für Leibniz. ----- * Fraunhofer-Einrichtung für Mikrosysteme und Festkörper-Technologien EMFT, Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS, Fraunhofer-Institut für Hochfrequenzphysik und Radartechnik FHR, Fraunhofer-Institut für Nachrichtentechnik, Heinrich-Hertz-Institut, HHI, Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF, Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen IIS, Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB, Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS, Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS, Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT, Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM