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© maksim pasko dreamstime.com Komponenten | 23 MĂ€rz 2015

Nano Carbon entwickelt Graphen mit Aixtron Anlage

Der polnische Hersteller Nano Carbon hat eine AIX G5 WW-Anlage von Aixtron fĂŒr die Herstellung von Graphen-auf-Siliziumkarbid bestellt.
Nano Carbon verfĂŒgt ĂŒber eine patentierte Technik zur kostengĂŒnstigen Herstellung von epitaktisch gewachsenem Graphen, das mit der Aixtron Anlage realisiert werden kann.

Die Anlage wurde im ersten Quartal 2015 bestellt und ist fĂŒr 10x100 mm- bzw. 6x150 mm- Substrate pro Fertigungslauf konfiguriert. Die Auslieferung ist fĂŒr das vierte Quartal geplant.

Das Startup Nano Carbon wurde 2011 gegrĂŒndet und verwendet eine am Institute of Electronic Materials Technology in Warschau entwickelte Technologie. „Mit der AIX G5 WW-Anlage werden wir die Entwicklung von Graphen-auf-Siliziumkarbid weiterfĂŒhren bis hin zur Kommerzialisierung dieser Technologie im industriellen Maßstab“, erklĂ€rt Dr. Wlodek Strupinski vom Institut die PlĂ€ne.

Dr. Frank Schulte, Vice President Aixtron Europe, ergĂ€nzt: „Gerne stellen wir unsere Anlage fĂŒr den Eintritt in dieses vielversprechende Technologiefeld bereit und werden Nano Carbon bei seinen ExpansionsplĂ€nen unterstĂŒtzen.“
Die AIX G5 WW liefert hohen Wafer-Durchsatz und wurde fĂŒr die sehr hohen Temperaturen entwickelt, die bei der Abscheidung von epitaktischem Graphen-auf-Siliziumkarbid erforderlich sind.

Nano Carbon ist assoziiertes Mitglied im EU-Projekt „Graphen-Flaggschiff“, in dem Aixtron das Arbeitspaket Produktion leitet. Forschungsgruppen und Industrien, die sich mit der Entwicklung neuartiger Bauelemente auf der Basis von Graphen beschĂ€ftigen, sollen kĂŒnftig von Nano Carbon mit hochwertigem Graphen beliefert werden.
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2019.01.17 14:20 V11.11.0-1