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Aixtron liefert Prodos Gen3.5 nach Asien
Aixtron hat eine Prodos Gen3.5 PVPD-Anlage (Polymer Vapor Phase Deposition) auf Basis seiner patentierten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie an einen großen asiatischen Hersteller geliefert.
Die neue Produktionsanlage ist für die Abscheidung von Polymer-Dünnfilmen vorgesehen, mit denen neuartige Bauelemente für die flexible Elektronik hergestellt werden sollen. Ein Serviceteam von AIXTRON wird die neue Plattform in den nächsten Wochen am Standort des Kunden installieren und in Betrieb nehmen.
„Erst kürzlich haben wir unsere Forschungs- und Entwicklungsanlage Prodos-200 in den Markt eingeführt", sagt Jürgen Kreis, Director Business Development bei Aixtron. „Die neue Prodos Gen3.5-Anlage ist speziell für die Produktionsumgebung im Format Gen3.5 (Substratgrößen von 650x750mm²) unseres Kunden ausgelegt. Während die Entwicklungsanlage aufgrund ihrer flexiblen Konfigurationen neue Prozesse auf 200x200mm²-Substratgröße ermöglicht, implementiert die Prodos Gen3.5 für dieses neue Projekt einen spezifischen Prozess zur Polymerabscheidung im industriellen Maßstab. Die Zusammenführung der trägergasgestützten Abscheidung mit der Close Coupled Showerhead-Technologie beweist die hervorragende Skalierbarkeit des PVPDTM-Ansatzes."
