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Komponenten | 25 November 2011

Carl Zeiss gewinnt Thüringer Innovationspreis 2011

Das Metrologie-System PROVE® von Carl Zeiss hat den Thüringer Innovationspreis 2011 in der Kategorie Industrie & Material gewonnen, der am 24. November von der Stiftung für Technologie, Innovation und Forschung Thüringen verliehen wurde.
Das Metrologiesystem PROVE®, das in der Halbleitertechnik eingesetzt wird, vermisst Photomasken, um mögliche Positionsfehler von Strukturen zu minimieren. Die fehlerfreie Positionierung der Strukturen ist eine wesentliche Voraussetzung für das Funktionieren von Computerchips. Fast alle in größerer Stückzahl hergestellten Chips werden mit Hilfe eines photolithographischen Verfahrens hergestellt. Photomasken spielen dabei eine wesentliche Rolle, da sie das Chipdesign enthalten. Alle Positionen, Größen und Abstände von den im Design enthaltenen Strukturen sind in den Photomasken vordefiniert. Die Maske als wesentliches Element des Chipherstellungs- prozesses muss deshalb höchsten Qualitätsansprüchen genügen.

Entspricht mittlerem Atomabstand in Festkörpern
Mit PROVE® werden Vermessungen mit einer Präzision von unter 0,5 nm durchgeführt, was der Größe eines mittleren Atomabstands in Festkörpern entspricht (ein Nanometer ist ein millionstel Millimeter). Zum Vergleich: Die Größenverhältnisse bei der Vermessung von Photomasken mit PROVE® entsprechen 5 mm über eine Strecke von 1500 km. In Europa könnte man also theoretisch die geographische Lage eines Gebäudes wie das Brandenburger Tor auf 5 mm genau vermessen. Diese Genauigkeit wird durch eine hochauflösende Optik, einen hochpräzisen Positioniertisch und neuentwickelte Bildauswertungsverfahren ermöglicht.

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2018.05.11 10:46 V9.5.4-2