Anzeige
Anzeige
Anzeige
Komponenten | 25 November 2011

Carl Zeiss gewinnt Thüringer Innovationspreis 2011

Das Metrologie-System PROVE® von Carl Zeiss hat den Thüringer Innovationspreis 2011 in der Kategorie Industrie & Material gewonnen, der am 24. November von der Stiftung für Technologie, Innovation und Forschung Thüringen verliehen wurde.
Das Metrologiesystem PROVE┬«, das in der Halbleitertechnik eingesetzt wird, vermisst Photomasken, um m├Âgliche Positionsfehler von Strukturen zu minimieren. Die fehlerfreie Positionierung der Strukturen ist eine wesentliche Voraussetzung f├╝r das Funktionieren von Computerchips. Fast alle in gr├Â├čerer St├╝ckzahl hergestellten Chips werden mit Hilfe eines photolithographischen Verfahrens hergestellt. Photomasken spielen dabei eine wesentliche Rolle, da sie das Chipdesign enthalten. Alle Positionen, Gr├Â├čen und Abst├Ąnde von den im Design enthaltenen Strukturen sind in den Photomasken vordefiniert. Die Maske als wesentliches Element des Chipherstellungs- prozesses muss deshalb h├Âchsten Qualit├Ątsanspr├╝chen gen├╝gen.

Entspricht mittlerem Atomabstand in Festk├Ârpern
Mit PROVE┬« werden Vermessungen mit einer Pr├Ązision von unter 0,5 nm durchgef├╝hrt, was der Gr├Â├če eines mittleren Atomabstands in Festk├Ârpern entspricht (ein Nanometer ist ein millionstel Millimeter). Zum Vergleich: Die Gr├Â├čenverh├Ąltnisse bei der Vermessung von Photomasken mit PROVE┬« entsprechen 5 mm ├╝ber eine Strecke von 1500 km. In Europa k├Ânnte man also theoretisch die geographische Lage eines Geb├Ąudes wie das Brandenburger Tor auf 5 mm genau vermessen. Diese Genauigkeit wird durch eine hochaufl├Âsende Optik, einen hochpr├Ązisen Positioniertisch und neuentwickelte Bildauswertungsverfahren erm├Âglicht.
Weitere Nachrichten
2019.01.17 14:20 V11.11.0-1