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Elektronikproduktion |

Hualei Optoelectronic bestellt Aixtron MOCVD-Anlagen zur LED-Produktion

Hualei Optoelectronic, mit Sitz in der Provinz Hunan, China, hat Aixtron einen Auftrag über mehrere CRIUS MOCVD-Anlagen erteilt. Die Anlagen zur Produktion von ultrahellen LEDs werden in der Zeit vom 2Q bis zum 4Q/2009 ausgeliefert. Dies ist bislang der größter Einzelauftrag für MOCVD-Anlagen aus China.

Ein Teil dieses Auftrags wurde als Auftragseingang im ersten Quartal 2009 gebucht. Hualei Optoelectronics Präsident Daqing He kommentiert: „Für unsere Muttergesellschaft/Investor ist es von enormer Bedeutung, den Wechsel von der Schwerindustrie hin zum High-Tech-Geschäft zu vollziehen. Daher haben wir intensiv die globalen LED-Märkte durchleuchtet. Um unser strategisches Ziel, nämlich die Erschließung des Markts ultraheller LEDs, zu erreichen, haben wir uns für Aixtron als stärksten Partner entschieden. Mit ihm wird Hualei schnell und effizient seine Ziele erreichen. Wir werden die technischen Erfahrungen unserer internationalen Partner nutzen, um rechtzeitig bei Aufschwung des LED-Markts in diesem Sektor Fuß zu fassen. Zusammen mit dem guten Ruf des professionellen und schnellen Services des Aixtron-Teams vor Ort wird das unseren Erfolg garantieren.” Dr. Bastian Marheineke, Vizepräsident Sales der Aixtron AG, fügt hinzu: „Hualeis Investition ist zeitlich sehr gut angesetzt und steht für ein China im Zeichen des Aufschwungs. Unser Unternehmen zeigt hier seit vielen Jahren eine starke Präsenz; Aixtron war die erste Firma, die einen kommerziellen MOCVD-Reaktor in China installiert hat. Seitdem pflegen wir exzellente Beziehungen zu den führenden Instituten und Unternehmen des Landes. Natürlich teilen wir mit Freude mit, dass dies unser bisher größter Einzelauftrag aus China ist. Er spiegelt die Investitionsfreude in neue technologische Tätigkeitsgebiete wieder und zeigt außerdem das starke Vertrauen in Aixtrons Technologie – dank unserem weltweit guten Ruf in Bezug auf verlässliche Produkte und Service von bester Qualität.“ ----- *MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung

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2024.04.25 14:09 V22.4.31-1
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