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Fertigungsanlagen | 26 Mai 2008

Vistec EBPG5000plus für Paul Scherrer Institut

Das neue Elektron - Beam - Lithographie - System wird im Labor für Mikro - und Nanotechnologie (LMN) des Paul Scherer Institut installiert. Es ist für die Forschung im Bereich der optischen, elektronischen und magnetischen Eigenschaften von Nanostrukturen erforderlich.
Die EBPG5000plus ergänzt andere Vistec Electron-Beam-Lithographie-Systeme, welche bereits bei anderen führenden Forschungseinrichtungen weltweit installiert wurden.

Durch die zuverlässige und bewährte System-Architektur, bietet das System eine Spot-Size von <2.5nm auf 100keV Strahlenergie, so dass Nano-Lithographie Strukturen von 8nm und kleiner generiert werden können. Als Ergebnis seiner hohen Flexibilität und einfach zu bedienende Software, wurde die EBPG5000plus das am meisten genutzte System in der Forschungsgemeinschaft.

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