Fertigungsanlagen | 26 Mai 2008
Vistec EBPG5000plus für Paul Scherrer Institut
Das neue Elektron - Beam - Lithographie - System wird im Labor für Mikro - und Nanotechnologie (LMN) des Paul Scherer Institut installiert. Es ist für die Forschung im Bereich der optischen, elektronischen und magnetischen Eigenschaften von Nanostrukturen erforderlich.
Die EBPG5000plus ergänzt andere Vistec Electron-Beam-Lithographie-Systeme, welche bereits bei anderen führenden Forschungseinrichtungen weltweit installiert wurden.
Durch die zuverlässige und bewährte System-Architektur, bietet das System eine Spot-Size von <2.5nm auf 100keV Strahlenergie, so dass Nano-Lithographie Strukturen von 8nm und kleiner generiert werden können. Als Ergebnis seiner hohen Flexibilität und einfach zu bedienende Software, wurde die EBPG5000plus das am meisten genutzte System in der Forschungsgemeinschaft.
Durch die zuverlässige und bewährte System-Architektur, bietet das System eine Spot-Size von <2.5nm auf 100keV Strahlenergie, so dass Nano-Lithographie Strukturen von 8nm und kleiner generiert werden können. Als Ergebnis seiner hohen Flexibilität und einfach zu bedienende Software, wurde die EBPG5000plus das am meisten genutzte System in der Forschungsgemeinschaft.
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