Die EBPG5000plus ergänzt andere Vistec Electron-Beam-Lithographie-Systeme, welche bereits bei anderen führenden Forschungseinrichtungen weltweit installiert wurden. Durch die zuverlässige und bewährte System-Architektur, bietet das System eine Spot-Size von <2.5nm auf 100keV Strahlenergie, so dass Nano-Lithographie Strukturen von 8nm und kleiner generiert werden können. Als Ergebnis seiner hohen Flexibilität und einfach zu bedienende Software, wurde die EBPG5000plus das am meisten genutzte System in der Forschungsgemeinschaft.