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Elektronikproduktion | 22 Februar 2012

SÜSS MicroTec und GenISys kooperieren

SÜSS MicroTec und GenISys verkĂŒnden Kooperation bei Lithografie Simulationssoftware fĂŒr Mask Aligner.
SÜSS MicroTec und die GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, haben heute ihre Zusammenarbeit bei der Lithografie Simulationssoftware Layout LABℱ von GenISys mit Mask Alignern von SÜSS MicroTec bekannt gegeben. Im Rahmen dieser Kooperation wurde die Layout LAB Software erweitert, um alle derzeit verfĂŒgbaren SÜSS MicroTec Mask Aligner Belichtungsoptiken zu modellieren. Beide Partner kombinieren ihre Anstrengungen, die SÜSS Mask Aligner Technologie mit der Simulationssoftware Layout LAB von GenISys gemeinsam zu vermarkten. Die Kombination von LithografiegerĂ€ten und zugehöriger Simulationssoftware ist ein weiterer Erfolgsfaktor fĂŒr eine kosteneffektive Prozess- und Produktentwicklung bei den Endkunden. "Die neueste und fortschrittlichste Belichtungsoptik von SÜSS MicroTec, MO Exposure OpticsÂź, ermöglicht den Einsatz von Technologien aus dem Frontend, wie beispielsweise einer Optimierung der Beleuchtung und des Maskenlayouts", sagt Frank P. Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. "Diese ermöglicht in Kombination mit der GenISys Simulationssoftware neue TechnologieansĂ€tze, wobei die komplexe Auswahl aus einer Vielzahl verschiedenster Lichtquellen und -formen durch die Simulationsergebnisse erheblich vereinfacht werden kann." "Layout LABℱ ist eine professionelle 3D Simulationsplattform fĂŒr optische Proximity Lithografie, mit deren Hilfe eine große Anzahl von Simulationen quasi ĂŒber Nacht durchgefĂŒhrt werden kann. Dies ermöglicht eine Optimierung des Maskenlayouts und der Belichtungsbedingungen. Neben den Kosteneinsparungen hilft dies unseren Kunden die Zeit zur MarkteinfĂŒhrung zu verkĂŒrzen“, sagt Nezih Unal, Vice President der GenISys GmbH.
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