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Elektronikproduktion | 22 Februar 2012

SÜSS MicroTec und GenISys kooperieren

SÜSS MicroTec und GenISys verkünden Kooperation bei Lithografie Simulationssoftware für Mask Aligner.

SÜSS MicroTec und die GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, haben heute ihre Zusammenarbeit bei der Lithografie Simulationssoftware Layout LAB™ von GenISys mit Mask Alignern von SÜSS MicroTec bekannt gegeben. Im Rahmen dieser Kooperation wurde die Layout LAB Software erweitert, um alle derzeit verfügbaren SÜSS MicroTec Mask Aligner Belichtungsoptiken zu modellieren. Beide Partner kombinieren ihre Anstrengungen, die SÜSS Mask Aligner Technologie mit der Simulationssoftware Layout LAB von GenISys gemeinsam zu vermarkten. Die Kombination von Lithografiegeräten und zugehöriger Simulationssoftware ist ein weiterer Erfolgsfaktor für eine kosteneffektive Prozess- und Produktentwicklung bei den Endkunden. "Die neueste und fortschrittlichste Belichtungsoptik von SÜSS MicroTec, MO Exposure Optics®, ermöglicht den Einsatz von Technologien aus dem Frontend, wie beispielsweise einer Optimierung der Beleuchtung und des Maskenlayouts", sagt Frank P. Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. "Diese ermöglicht in Kombination mit der GenISys Simulationssoftware neue Technologieansätze, wobei die komplexe Auswahl aus einer Vielzahl verschiedenster Lichtquellen und -formen durch die Simulationsergebnisse erheblich vereinfacht werden kann." "Layout LAB™ ist eine professionelle 3D Simulationsplattform für optische Proximity Lithografie, mit deren Hilfe eine große Anzahl von Simulationen quasi über Nacht durchgeführt werden kann. Dies ermöglicht eine Optimierung des Maskenlayouts und der Belichtungsbedingungen. Neben den Kosteneinsparungen hilft dies unseren Kunden die Zeit zur Markteinführung zu verkürzen“, sagt Nezih Unal, Vice President der GenISys GmbH.
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