El-Mul produziert auf Aixtron Black Magic-Anlage
El-Mul Technologies, Israel entwickelt sein innovatives E-Beam On-a-Chip-Verfahren mit Hilfe einer vollautomatischen Black Magic-Anlage von Aixtron weiter.
Die Anlage, die mit Hilfe thermischer und plasmagestützter chemischer Gasphasenabscheidung (PECVD) vertikal orientierte Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) produziert, erfüllt die besonderen Anforderungen dieses Produktes bezüglich der präzisen Anordnung und der reproduzierbaren Herstellung der Nanoröhren. Die jüngst erreichte Pilot-Produktionsreife der E-Beam On-a-Chip-Technologie ist für El Mul ein entscheidender Schritt hin zur industriellen Fertigung von CNT-basierten Elektronenstrahlquellen.
E-Beam On-a-Chip nutzt die einzigartigen elektrischen und mechanischen Eigenschaften von CNTs, um hochwertige Feldemissions-Elektronquellen zu produzieren. El-Muls Technologie erzeugt niederenergetische Elektronenstrahlen, die als wohldefinierte Feinstrahlen oder als ausgedehntere Strahlen von hoher Intensität Anwendung finden. Sie soll in der Elektronenmikroskopie, der Gasionisation, bei Röntgengeräten, Flachbildschirmen und in der sub-40nm-Halbleitertechnologie neue Anwendungsbereiche erschließen.
Bislang wurden Elektronenstrahlquellen einzeln hergestellt und komplett manuell gefertigt. Wie der Name schon sagt, nutzt El-Muls E-Beam On-a-Chip-Technologie mikroelektronisch-kompatible Prozesse, um Elektronenstrahlquellen auf Halbleiterwafern in Serie zu produzieren. Zu den Vorteilen des Verfahrens gehört die zeitgleiche Herstellung von mehreren Bauteilen, gute Skalierbarkeit und die geringe Größe, sowie Mikropräzision in der Produktion, durch die Justierungsprobleme beseitigt werden.
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PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition = plasmagestützte Gasphasenabscheidung
CNT, Carbon Nanotubes = Kohlenstoffnanoröhren
E-Beam On-a-Chip nutzt die einzigartigen elektrischen und mechanischen Eigenschaften von CNTs, um hochwertige Feldemissions-Elektronquellen zu produzieren. El-Muls Technologie erzeugt niederenergetische Elektronenstrahlen, die als wohldefinierte Feinstrahlen oder als ausgedehntere Strahlen von hoher Intensität Anwendung finden. Sie soll in der Elektronenmikroskopie, der Gasionisation, bei Röntgengeräten, Flachbildschirmen und in der sub-40nm-Halbleitertechnologie neue Anwendungsbereiche erschließen.
Bislang wurden Elektronenstrahlquellen einzeln hergestellt und komplett manuell gefertigt. Wie der Name schon sagt, nutzt El-Muls E-Beam On-a-Chip-Technologie mikroelektronisch-kompatible Prozesse, um Elektronenstrahlquellen auf Halbleiterwafern in Serie zu produzieren. Zu den Vorteilen des Verfahrens gehört die zeitgleiche Herstellung von mehreren Bauteilen, gute Skalierbarkeit und die geringe Größe, sowie Mikropräzision in der Produktion, durch die Justierungsprobleme beseitigt werden.
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PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition = plasmagestützte Gasphasenabscheidung
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