Anzeige
Anzeige
Anzeige
Anzeige
Fertigungsanlagen | 31 August 2006

IMEC erhält weltweit erste EUV-Anlage von ASML

Das Interuniversity MicroElectronics Center (IMEC) in Leuven, Belgien, soll die weltweit erste EUV-Lithografieanlage (Alpha Demo Tool ) des niederländischen Unternehmens ASML erhalten. Eine weitere 65-Millionen-Dollar teure Anlage erhält das College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) der State University von New York (SUNY) in Albany.
Das Alpha Demo Tool eignet sich derzeit f√ľr Abbildungen bis 35-nm-Strukturen. Die EUV-Technik f√ľr die kommende 32-nm-Prozessgeneration und dar√ľber hinaus fit gemacht werden. Hierbei arbeitet das IMEC mit mehr als 30 Industriepartnern zusammen, darunter Halbleiterhersteller wie Infineon, Intel, Matsushita/Panasonic, Micron, Philips Semiconductor, Samsung, STMicroelectronics, Texas Instruments und TSMC.
Parallel werden aber auch Konkurrenzverfahren zu EUV erprobt, insbesondere so genannte Immersionstechniken, bei denen Wasser zwischen den Linsen f√ľr eine h√∂here numerische Apertur (NA) sorgt, sodass mit zahlreichen anderen Tricks Strukturen um 32 nm noch mit 193-mn-Lasern machbar sind.
Weitere Nachrichten
2019.01.17 14:20 V11.11.0-2