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Fertigungsanlagen | 31 August 2006

IMEC erhält weltweit erste EUV-Anlage von ASML

Das Interuniversity MicroElectronics Center (IMEC) in Leuven, Belgien, soll die weltweit erste EUV-Lithografieanlage (Alpha Demo Tool ) des niederländischen Unternehmens ASML erhalten. Eine weitere 65-Millionen-Dollar teure Anlage erhält das College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) der State University von New York (SUNY) in Albany.
Das Alpha Demo Tool eignet sich derzeit für Abbildungen bis 35-nm-Strukturen. Die EUV-Technik für die kommende 32-nm-Prozessgeneration und darüber hinaus fit gemacht werden. Hierbei arbeitet das IMEC mit mehr als 30 Industriepartnern zusammen, darunter Halbleiterhersteller wie Infineon, Intel, Matsushita/Panasonic, Micron, Philips Semiconductor, Samsung, STMicroelectronics, Texas Instruments und TSMC.
Parallel werden aber auch Konkurrenzverfahren zu EUV erprobt, insbesondere so genannte Immersionstechniken, bei denen Wasser zwischen den Linsen für eine höhere numerische Apertur (NA) sorgt, sodass mit zahlreichen anderen Tricks Strukturen um 32 nm noch mit 193-mn-Lasern machbar sind.

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2018.10.15 23:56 V11.6.0-2