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Elektronikproduktion | 11 September 2009

Mitsubishi Chemicals bestellt Aixtron MOCVD-Anlage

Mitsubishi Chemicals mit Sitz in Tokio, Japan, hat im 2Q/2009 eine AIX 2800G4 HT Planetary Reactor-Anlage bestellt.
Die MOCVD-Anlage wird in einer Waferkonfiguration von 42x2 Zoll ausgeliefert und dient der Produktion ultraheller (UHB) wei√üer LEDs auf Basis von Indium-Galliumnitrid (InGaN). Mitsubishi Chemicals konnte bereits bemerkenswerte Fortschritte in der Massenproduktion von Phosphor-Leuchtstoffen f√ľr ultrahelle wei√üe LEDs erzielen und damit die n√§chste Stufe seines Strategieplans abschlie√üen. Mit der neuen AIX 2800G4 HT Planetenanlage wird das Unternehmen flexibler und sehr rasch in der Lage sein, von der Entwicklung der UHB-LEDs zu deren Massenproduktion √ľberzugehen. Dank des Phosphors wird Mitsubishi Chemicals k√ľnftig au√üergew√∂hnlich leistungsf√§hige wei√üe LEDs herstellen, die bei der Hintergrund- und Festk√∂rperbeleuchtung sowie bei weiteren wegweisenden Anwendungen zum Einsatz kommen. ----- MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung UHB-LEDs, Ultra High Brightness LEDs = ultrahelle Leuchtdioden
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