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Elektronikproduktion | 13 Januar 2009

Carl Zeiss erhält nächsten Auftrag von Samsung Electronics

Carl Zeiss SMT aus Jena hat vom koreanischen Bauteilhersteller Samsung Electronics einen weiteren Auftrag für sein Photomask Registration and Overlay Metrology System PROVE™ erhalten. Erst vor kurzem hatte NuFlare, ein Hersteller von e-Beam-Maskenschreibern, ein derartiges System bestellt.
"Im Hinblick auf die gegenwärtige Marktsituation ist dies ein bemerkenswerter Erfolg. Diese Aufträge verdeutlichen, dass PROVETM mit seiner hochauflösenden 193nm Optik eine entscheidende Technologie für die Maskenfertigung beim 32nm Prozess und darunter ist. Für strategisch operierende Unternehmen, ungeachtet ob sie Hersteller von Maskenschreibern, IDMs oder Maskenanbieter sind, gibt es derzeit keine Alternative zu der ZEISS Technologie, wenn sie ihre aggressiven Roadmaps einhalten wollen," meint Dr. Oliver Kienzle, Member of the Board der Semiconductor Metrology Systems Division (SMS) von Carl Zeiss SMT.

Das neue System PROVETM wurde von mehr als 40 Carl Zeiss SMT Ingenieuren entwickelt und wird von SEMATECH unterstützt.

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