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© selenka dreamstime.com Elektronikproduktion | 18 Februar 2020

Erste Maskless Aligner MLA300 bei Kunden installiert

Nach der offiziellen Einführung des Maskless Aligner MLA300 von Heidelberg Instruments für die industrielle Produktion im November 2019 sind die ersten beiden Maschinen bei Kunden in der Halbleiter- und Elektronikkomponentenindustrie installiert worden.

Das ist eine Produktankündigung von Heidelberg Instruments. Allein der Emittent ist für den Inhalt verantwortlich.
Weitere Aufträge stehen noch aus und sollen in Q2 und Q3 2020 ausgeliefert werden, heißt es in einer Mitteilung. Produktionseinstellungen mit hohem Durchsatz können nun von all den Qualitäten profitieren, die die Maskless Alignment Technologie in der Forschung und Entwicklung sowie in der Fertigung von kleinen bis mittleren Serien äußerst erfolgreich gemacht haben. Der MLA300 wurde speziell für industrielle Anforderungen wie hohe Belichtungsgeschwindigkeit und Vollautomatisierung entwickelt und ermöglicht die maskenlose Belichtung von 300-mm-Wafern und Substraten. Er bietet eine vollständig integrierte Lösung, komplett mit Produktionsmanagement-Software und automatischen Ladegeräten, die sich in Produktionslinien und MES-Systeme integrieren lässt. Der MLA300 kann entsprechend den spezifischen Anforderungen hinsichtlich Prozess, Resists, Featuregröße und so weiter angepasst werden. Seine hohe Belichtungsgeschwindigkeit kann durch die Kombination von mehr als einem (bis zu vier) integrierten optischen Modulen noch weiter gesteigert werden. Der Standard-Schreibmodus erreicht eine Auflösung von 1,5 µm für isolierte Merkmale oder 2 µm für Linien und Zwischenräume. Das System bietet eine perfekte Überlagerung und Ausrichtung, wobei die Ausrichtung der 2. Schicht mit 500 nm spezifiziert ist. Eine Kernanforderung der ersten MLA300-Kunden war eine gleichbleibend hohe Belichtungsqualität auf anspruchsvollen und verzerrten Substraten. Dies werde durch den Tracking-Autofokus gewährleistet, der den Substratverzug kompensiert und so eine hervorragende Belichtungsgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit über den gesamten Schreibbereich gewährleiste, heißt es in der Mitteilung. Die Fähigkeit, das Muster schnell anzupassen, sei ein Highlight der maskenlosen Lithografie-Technologie. Der räumliche Lichtmodulator wirke effektiv wie eine "dynamische Maske": Die Daten können sofort angepasst werden.
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2020.05.28 10:59 V18.6.7-2