glō bestellt G5+ MOCVD-Anlage für Micro-LED-Produktion

Solche 3D-Strukturen ermöglichen das Wachstum von Micro-LEDs unter Beibehaltung der Zuverlässigkeit eines anorganischen Materialsystems. Aixtrons AIX G5+ Planetary Reactor System wurde im Rahmen der strategischen Expansion von glō ausgewählt und wird in einer Konfiguration von 8x150mm im Lauf des vierten Quartals 2017 geliefert. Fariba Danesh, CEO von glō, sagt: "Auf der Basis von mehr als zehn Jahren Erfahrung sowie dem Know-how im Bereich der Nanotechnologie, haben wir eine wegweisende dreifarbige Micro-LED-Displaytechnologie entwickelt. Unsere drei Farbpixel werden ausschließlich mittels GaN-Halbleitermaterialien hergestellt. Wir konzentrieren uns nun darauf, diese spannende Technologie in die Massenproduktion zu überführen. Über die Epitaxie-Struktur hinaus, verlangt die Herstellung von Micro-LEDs skalierbare Prozesse, straffe Heterogenität und Partikel-Kontrolle der Epitaxie-Wafer, um eine größtmögliche Ausbeute und damit die kosteneffiziente Weitergabe an unsere Partner im Bereich Micro-LEDs zu ermöglichen. Aixtrons AIX G5+ MOCVD-Anlage erfüllt aufgrund ihres Batch Reactor-Konzepts alle diese Anforderungen unter gleichzeitiger Einhaltung eines wirtschaftlichen Produktionsbetriebs. Daher freuen wir uns bei diesen vielversprechenden Anwendungen auf eine enge Zusammenarbeit mit Aixtron.“ "Wir freuen uns über das Vertrauen, das uns glō entgegen bringt und sind zuversichtlich, dass unsere Technologie die Bedürfnisse des Unternehmens bestmöglich unterstützt. Unsere AIX G5+ genießt einen hervorragenden Ruf als Referenzanlage für Anwendungen im Bereich Micro-LED, da sie die einzige Technologie auf dem Markt ist, die sowohl eine on-wafer Homogenitätskontrolle als auch niedrige Partikelniveaus und einzigartige erweiterte Funktionen wie die Wafer-Level-Temperaturkontrolle mittels Auto-Feed Forward (AFF) liefert. Damit unterstützt unsere Anlage die hohen Anforderungen in der Herstellung von Micro-LEDs“, sagt Dr. Bernd Schulte, Vorstand der Aixtron SE.