Neues Kompetenzzentrum für Nanoimprinting in Nordamerika

Im Rahmen dieser Zusammenarbeit hat Penn vor Kurzem die Maschinen und das technologische Know-how für das SCIL-Verfahren (Substrate Conformal Imprint Lithography) erhalten, das die Leistungsfähigkeit des bereits an der Penn installierten Mask Aligner MA/BA6 Gen3 von Süss MicroTec erweitern wird. Das Singh Center für Nanotechnologie plant den Einsatz der SCIL-Technologie in plasmonischen Bauteilen, Halbleiter-Nanodrähten, in flexibler nanokristalliner Elektronik sowie in biologisch abbaubaren Sensoren und MEMS-Batterien. Darüber hinaus leitet Lithography Manager Dr. Gerald Lopez die Arbeiten des Centers zur Qualifizierung neuer Nanoimprinting-Materialien sowie zur Entwicklung der entsprechenden Prozesstechnologie in enger Zusammenarbeit mit Süss MicroTec. „Wir freuen uns über die Zusammenarbeit mit SÜSS MicroTec in der Entwicklung von Anwendungen mit SCIL. Indem wir unsere Stärken in der Mikro- und Nanofabrikation vereinen, sind wir in der Lage, unseren Forschern einzigartige Nanoimprinting-Leistungen zu bieten“, erklärten Professor Mark Allen, Scientific Director des Singh Centers für Nanotechnologie, und Alfred Fitler Moore, Professor of Electrical & Systems Engineering. „Wir sind über die Zusammenarbeit mit dem Singh Center für Nanotechnologie überaus erfreut. Die Arbeit des Centers wird erheblich zur Kommerzialisierung dieser Nanotechnik für großflächige Strukturen beitragen und damit die Anwendung in der Serienfertigung beschleunigen. Des Weiteren profitieren unsere Kunden nicht nur von der möglichen Nutzung der Einrichtungen der Penn und den Einblicken in den gesamten Prägungsprozess, sondern auch von dem Wissen der Universität, denn es steht ihnen ein erfahrener Partner zur Seite“, so Ralph Zoberbier, General Manager Exposure & Laser Processing bei Süss MicroTec.