UMI Georgia Tech-CNRS setzt auf Aixtron

Mit der 3x2-Zoll Close Coupled Showerhead (CCS)-Anlage soll das Wachstum von Nitridverbindungen für den Einsatz in Lichtquellen, Solarzellen, Sensoren und anderen Anwendungen erforscht werden. Ein Serviceteam von AIXTRON Europa hat den neuen Reaktor in einem Reinraum am Campus von Georgia Tech-Lorraine in Metz installiert und in Betrieb genommen. „Wir sind mit dieser Technik bestens vertraut", so Professor Abdallah Ougazzaden, Leiter der UMI Georgia Tech-CNRS, „und haben uns daher auch erneut für AIXTRON entschieden. Der neue Reaktor eignet sich ideal für unsere Forschung im Bereich Galliumnitrid, Indiumnitrid, Bornitrid und den damit verbundenen Legierungen. Wir wollen diese Materialien in Lichtquellen, Solarzellen, Sensoren und anderen Anwendungen einsetzen – je nachdem, wie sich der Markt für Halbleiter entwickeln wird." „Mit Professor Ougazzaden in Frankreich und Professor Russell Dupuis von der Universität Georgia Tech in den USA verbindet uns eine enge Geschäftsbeziehung", fügt AIXTRON COO Dr. Bernd Schulte hinzu. „Beide leiten ein äußerst kompetentes Team und behandeln in ihrer Arbeit alle Aspekte der MOCVD-Nitridforschung. Die UMI Georgia Tech-CNRS liefert hervorragende wissenschaftliche Ergebnisse und beteiligt sich aktiv an zahlreichen nationalen und internationalen Projekten – vor allem auf dem Gebiet der sicheren Netzwerke und bei der Entwicklung neuer Materialien für die Optik und Elektronik." Das Forschungslabor Georgia Tech-CNRS, kurz "UMI" genannt, ist ein Zusammenschluss des Georgia Institute of Technology mit dem französischen Forschungszentrum CNRS. Neue Erkenntnisse erhoffen sich die Wissenschaftler vor allem in der Telekommunikation und der Entwicklung neuer Materialien. Schwerpunktprogramme der UMI sind optoelektronische Techniken zur Signalverschlüsselung, die sichere Übertragung in optischen und drahtlosen Systemen, die nicht-lineare Optik, neue Materialien und Nanostrukturen in der Photonik und Elektronik, die Entwicklung multifunktionaler Materialien, die Materialcharakterisierung mit Ultraschall sowie die Entwicklung neuartiger Ultraschall-Sensoren.