Anzeige
Anzeige
Anzeige
Anzeige
© corepics vof dreamstime.com Markt | 31 Oktober 2014

Showa Denko qualifiziert Aixtron Anlage

Der japanische Hersteller Showa Denko hat die neueste Anlage des Unternehmens zur Herstellung von Siliziumkarbid-Epitaxiewafern (SiC) erfolgreich qualifiziert.

Die neue AIX G5 WW (Warm-Wall) Anlage verarbeitet bis zu acht 150 mm- oder zwölf 100 mm-Substrate. Sie ist damit das derzeit größte Produktionssystem mit dem höchsten Durchsatz und den niedrigsten Betriebskosten pro Wafer im Markt. Der Geschäftsbereich SiC-Epitaxie von Showa Denko weist eine der größten Fertigungskapazitäten im Markt auf. Bereits 2013 vollzog das Unternehmen den Schritt von 4-Zoll- (100 mm) zu 6-Zoll-Wafern (150 mm). Showa Denko baut nun mit Aixtron Technologie die Produktion von 150 mm-Wafern weiter aus. Die AIX G5 WW Anlage wurde mit Hilfe von Aixtron’s japanischem Service- und Prozessteam trotz eines engen Zeitplans seitens des Kunden pünktlich qualifiziert: Nach der Inbetriebnahme im ersten Quartal 2014, erfolgte die Freigabe für die Produktion bereits in der ersten Aprilhälfte 2014.
Weitere Nachrichten
2019.08.21 15:49 V14.1.4-1