Elektronikproduktion | 03 Dezember 2010

SÜSS MicroTec und Rolith kooperieren bei Entwicklung neuartiger Nanolithografie

Die Zusammenarbeit beinhaltet die Entwicklung und den Bau von Anlagen für die Nanostrukturierung, wofür eine von Rolith entwickelte vollkommen neuartige Methode von Nanolithografie eingesetzt wird.
Wie SÜSS MicroTec, Hersteller von Equipment und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Branchen, am Donnerstag bekannt gab, hat das Unternehmen eine Entwicklungs- und Exklusiv-Lizenzvereinbarung mit Rolith, Inc. abgeschlossen. Die Verfügbarkeit eines kosteneffizienten und durchsatzstarken Verfahrens für die Nanostrukturierung großer Substratflächen eröffnet neue Möglichkeiten für erneuerbare Energien und umweltfreundliche Gebäude.

Auflösungen im Sub-Wellenlängenbereich
Die zum Patent angemeldete Nanolithografie-Technologie von Rolith basiert auf der Anwendung von optischer Nahfeldlithografie mithilfe zylindrisch geformter Rollmasken. Durch phasenverschobene Interferenzeffekte oder plasmonisch optimierte Prägestrukturen werden Auflösungen im Sub-Wellenlängenbereich erreicht. Die durchgehende Belichtung ermöglicht einen hohen Durchsatz und damit niedrige Produktionskosten.

Potenzial für Massenfertigung
„Die jüngsten Erfolge unserer Lithografiesysteme für das Nanoimprinting zeichnen uns als führende Experten für die Strukturierung von Substraten bei MEMS- und Nano-Anwendungen aus“, stellte Frank Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG fest. „In Kombination mit unseren flexiblen Systemen bietet Roliths neuartige optische Nanolithografie-Methode eine im Vergleich zu den heutigen Technologien deutlich günstigere Kostenstruktur. Damit hat die neuartige Nanoimprinting-Technologie das Potenzial für die Massenfertigung eingesetzt zu werden.“

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