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Elektronikproduktion |

Optogan investiert in CRIUS II-Anlagen von Aixtron

Aixtron Kunde CJSC Optogan aus St. Petersburg (Russland) hat zwei CRIUS II-Depositonsanlagen zur Herstellung Galliumnitrid-basierter ultraheller LEDs bestellt. Die Anlagen werden im 4Q/2010 vom Serviceteam Europa in St. Petersburg in Betrieb genommen.

Hauptkriterium für den Zuschlag sei die gute Skalierbarkeit der Close Coupled Showerhead-Technologie, erläutert Dr. Maxim Odnoblyudov, Geschäftsführer und Vorstandsvorsitzender der Optogan Gruppe. "Die Prozessdaten der CRIUS MOCVD-Anlagen sind bemerkenswert – daher war der Generationswechsel auf die CRIUS II ein für uns denkbar einfacher Schritt. Die neue Anlage ist notwendig für unsere geplante Kapazitätssteigerung, mit der wir der Nachfrage nach neuen, leistungsfähigen und zugleich kostengünstigen Produkten begegnen." Dr. Frank Schulte, Vice President Aixtron Europa, fügt hinzu: "Diese Bestellung hat für Aixtron eine ganz besondere Bedeutung, da sie die erste für eine CRIUS II-Anlage in Europa ist. Die Optogan Gruppe ist einer der Hauptakteure im rasant wachsenden russischen Markt und nutzt unsere Technologie schon seit einigen Jahren. Gerne leisten wir diesen wertvollen Beitrag, damit unser Kunde sein Potenzial weiter ausbauen kann." Optogan wurde 2004 in Finnland von russischen Wissenschaftlern des weltweit renommierten St. Petersburger Ioffe-Instituts gegründet. Der vertikal integrierte Hersteller ultraheller LEDs stellt weltweit zahlreiche Anwendungen her – so zum Beispiel auch für die Festkörperbeleuchtung. Im Juli 2009 startete der Geschäftsbetrieb in Russland mit dem Ziel, die unternehmenseigene Produktpalette weiterzuentwickeln und Fertigungskapazitäten für die Massenproduktion aufzubauen. Nachdem die Optogan Gruppe im Mai 2010 Industriegebäude mit Infrastruktur vom EMS-Dienstleister Elcoteq in St. Petersburg erworben hatte, werden dort nun neue Fertigungslinien für die LED-Produktion errichtet. Die erste dieser Art mit einer Produktionskapazität von 30 Millionen LEDs im Monat soll im Herbst 2010 den Betrieb aufnehmen. ----- MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung

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2024.04.15 11:45 V22.4.27-2
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