X-Fab wird die 8-Zoll-MEMS-Fertigungslinie in drei Schritten im speziell dafür vorgesehenen MEMS-Reinraum des Unternehmens in Erfurt implementieren, um die Fertigungsleistung zu erhöhen und neue Prozessoptionen einzuführen.

• In Phase 1 wird die technische Ausstattung für Bulk-Silizium-Ätzverfahren zum exakt kontrollierbaren Herstellen von Membranen installiert, wie sie zum Beispiel für Drucksensoren, Infrarotsensoren und andere Siliziumstrukturen benötigt werden. Die Implementierung dieser Phase erfolgt im Jahr 2010.

• In Phase 2 kommen zu diesen Silizium-Ätzverfahren weitere wesentliche, für die MEMS-Fertigung notwendige Prozesse hinzu, wie Photolithographie und Dünnschichtdeposition.

• In Phase 3 werden darüber hinaus neue Prozesse implementiert, die X-Fab’s technologisches Angebot um Edelmetalle und andere, in CMOS-Fabs nicht übliche Materialien erweitern. So werden weitere Fertigungsmöglichkeiten für die stetig wachsende Vielfalt von MEMS-Bauelementen bereitgestellt.

Uwe Schwarz, Leiter des MEMS-Entwicklungsteams, fügt hinzu: „X-Fab’s MEMS-Foundryangebot kombiniert unsere umfassende Erfahrung auf diesem Gebiet mit den etablierten, für den Automobilsektor notwendigen Prozesskontroll- und Qualitätssicherungsverfahren, die in unserer gesamten CMOS- und MEMS-Fertigung angewendet werden."