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Elektronikproduktion | 20 April 2010

Carl Zeiss erhält Auftrag für Photomasken-Systeme

Ein Auftragsfertiger für Mikrochips bestellt mehrere Systeme zur Analyse und Reparatur von Photomasken bei Carl Zeiss. Der Auftrag hat ein Volumen von EUR 14,5 Millionen.
„Mit der immer weiter fortschreitenden Miniaturisierung von Chipstrukturen kommt unseren Systemen zur Maskenanalyse und Reparatur von Maskenfehlern eine steigende Bedeutung für eine hohe Gutausbeute in der Chipproduktion zu. Der durch die Finanzkrise ausgelöste Investitionsstau löst sich mit der Belebung des Halbleitermarktes auf, was dieser Auftrag eindrucksvoll bestätigt“, erläutert Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsführer der Carl Zeiss SMS GmbH, Jena.

Die Halbleiterindustrie befindet sich nach einer langen Rezession wieder in einem starken Aufwärtstrend, vor allem durch die gestiegene Nachfrage nach Unterhaltungselektronik wie Handys oder Kameras sowie durch neue Anwendungen wie Tablet-PCs oder Smartphones.

Der Kunde aus Taiwan bestellte insgesamt drei Geräte, um Photomasken – die für die Chipherstellung essentiell sind – zu prüfen und zu reparieren.

Das erste System ist ein AIMS 32-193i und dient zur Defektanalyse von Photomasken, indem es unter den gleichen optischen Bedingungen wie bei der Waferbelichtung analysiert, inwieweit sich Maskendefekte auf die Chipstruktur übertragen. Außerdem können Defektreparaturen optisch verifiziert werden.

Die weiteren zwei bestellten Reparatursysteme mit dem Produktnamen MeRiT reparieren Defekte auf Photomasken mit einer Genauigkeit von wenigen Nanometern. Basierend auf einer Elektronenstrahltechnologie kann dabei sowohl fehlendes Material ergänzt als auch überschüssiges Material weggeätzt werden.

Die Systeme werden an den Standorten Rossdorf und Jena entwickelt und in Jena produziert. Alle drei Geräte werden im Laufe der nächsten sechs Monate in Taiwan installiert.

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2017.11.14 20:30 V8.8.9-1