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Fertigungsanlagen | 03 August 2006

Carl Zeiss und Seiko arbeiten bei der Materialanalyse zusammen

Die Nano Technology Systems Division von Carl Zeiss SMT AG (Oberkochen, Deutschland) hat zusammen mit SII NanoTechnology Inc of Japan, einer Tochtergesellschaft von Seiko Instruments Inc. (SIINT), eine Mikroskopie-Workstation entwickelt.
Die beiden Unternehmen haben bei der NVision 40 Workstation eine Elektronenstrahl- und eine fokussierte Ionenstrahl-Technologie für die Analyse von Halbleitermaterialien kombiniert.
Das NVision 40 beinhaltet die Gemini Elektronenstrahltechnologie, die fokussierte Ionenstrahl- (FIB) und die Gasinjektionssystem-Technologie (GIS) der beiden Unternehmen. Durch zwei Elektronendetektoren können gleichzeitig sekundäre und zurückgestreute Elektronen erfasst werden.

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