Der jüngste Auftrag beinhaltet drei AIX 2600G3 MOCVD-Anlagen - eine in einer Konfiguration von 24x2 Zoll-Wafern, zwei mit je 49x2 Zoll-Wafern sowie eine AIX 2800G4 HT-Anlage mit einer Kapazität von 42x2 Zoll-Wafern.

Die MOCVD-Anlagen wurden im zweiten Quartal 2008 an die Produktionsstätte des Unternehmens im neuen Industriegebiet Shenzhen Guangming geliefert und erweitern Century Epitechs Produktionskapazitäten für leistungsstarke LEDs.

Vorstandsmitglied ZhiMin Liang erklärt: „Wir sind von AIXTRONs MOCVD-Anlagen und Prozesstechnologie überzeugt. Deshalb haben wir uns direkt dafür entschieden, unsere Wachstumspläne mit AIXTRONs Technologie umzusetzen. Die Anlagen sind auf unsere Bedürfnisse in der Serienherstellung leistungsstarker LEDs zugeschnitten und gewährleisten uns eine wettbewerbsfähige Produktion mit geringen Vorlaufzeiten."

Century Epitechs Geschäftsführer Dr. Ruquin Chen ergänzt: „Diese MOCVD-Anlagen haben einen guten Ruf. AIXTRONs Planetenreaktoren beweisen kontinuierlich ihre Fähigkeiten in der Produktion von LEDs und anderen Bauelementen. Gerade hinsichtlich Betriebszeit, Homogenität und der effizienten Ausnutzung der Ausgangsmaterialien sind sie unübertroffen."

-----
MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung