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Fertigungsanlagen | 16 Mai 2006

Heidelberg Instruments verkauft Lithographiesystem

Heidelberg Instruments meldete den Verkauf eines fortschrittlichen maskenlosen Laserlithographiesystems des Typs DWL400 an das Institut für Optik, Information und Photonik (Max Planck Research Group) der Universität Erlangen-Nürnberg.
Das System DWL400 ermöglicht die Übertragung kleinster Strukturen auf Fotolack bis hinab auf 0,6 Mikron mit einem aktiven Bereich von bis zu 400 mm mal 400 mm.

"Die Laserlithographie wird hauptsächlich für das direkte Schreiben von mikrostrukturierten optischen Elementen und Materialien genutzt. Wir schätzen besonders die Offenheit von HIMT im Hinblick auf neue Ideen, wie den Austausch von Hard- oder Software und freuen uns auf diese Zusammenarbeit", sagt Dr. Sabine Koenig, Projektkoordinierer am Institut für Optik, Information und Photonik.

"In den meisten Forschungsumgebungen sind die Leistung und Flexibilität entscheidend für den Erfolg der verschiedenen Projekte", sagt Alexander Forozan, Vice President of Sales and Marketing. "Für das Institut für Optik der Universität von Erlangen-Nürnberg ist die kundenspezifische Anpassung sehr wichtig, natürlich neben den anderen für die Mikro-Optikforschung wichtigen Funktionen, wie die Belichtung in unterschiedlichen Graustufen (128 Stufen), die Fähigkeit auch durch dicke Resist-Schichten zu belichten und die genaue Ausrichtung der einzelnen Schichten".

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2017.12.13 22:15 V8.9.2-1